[发明专利]光刻设备以及光刻方法有效
| 申请号： | 201810973109.1 | 申请日： | 2018-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN110858058B | 公开（公告）日： | 2022-01-25 |
| 发明（设计）人： | 张俊霖;张汉龙;傅中其;刘柏村;陈立锐;郑博中 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李玉锁;章侃铱 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开提供一种光刻设备，包括一激发腔、一标的发射器、一主激光发射器、以及一激光真空装置。标的发射器用以朝向激发腔内的一激发区域发射一标的。主激光发射器用以发射一主脉冲激光至激发区域内的标的。激光真空装置用以发射一真空激光至至激发腔内，且以于激发腔内形成一真空通道。激光真空装置发射真空激光之后，标的发射器发射标的通过真空通道进入激发区域。本公开提供的光刻设备可增加主激光发射器击中标的的精准度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 以及 方法 | ||
【主权项】：
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