[发明专利]光刻设备以及光刻方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

一激发腔；

一标的发射器，用以沿一第一方向朝向该激发腔内的一激发区域发射一标的；

一主激光发射器，用以发射一主脉冲激光至该激发区域内的该标的；以及

一激光真空装置，用以大致沿该第一方向发射一真空激光至该激发腔内，以于该激发腔内形成一真空通道；

其中于该激光真空装置发射该真空激光之后，该标的发射器发射该标的通过该真空通道进入该激发区域。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中该主激光发射器发射该主脉冲激光的频率、该标的发射器发射该标的的频率、以及该激光真空装置发射该真空激光的频率相同。

3.如权利要求1所述的光刻设备，还包括一预激光发射器，用以发射一预脉冲激光至该激发区域内的该标的，其中该标的发射器发射该标的之后，该预脉冲激光以及该主激光发射器按序发射该预脉冲激光以及该主脉冲激光。

4.如权利要求3所述的光刻设备，其中该预激光发射器发射该预脉冲激光的频率与该激光真空装置发射该真空激光的频率相同。

5.如权利要求3所述的光刻设备，其中该真空激光的功率小于该预脉冲激光的功率以及该主脉冲激光的功率。

6.如权利要求1所述的光刻设备，其中该主激光发射器沿一第二方向发射该主脉冲激光，其中该第一方向不同于该第二方向。

7.一种光刻设备，包括：

一激光真空装置，用以大致沿一第一方向发射一真空激光至于一激发腔内，以使该激发腔内形成一真空通道；以及

一标的发射器，用以沿该第一方向发射一标的，其中该标的通过该真空通道至一激发区域。

8.一种光刻方法，包括：

经由一激光真空装置大致沿一第一方向发射一真空激光至一激发腔内，以使该激发腔内形成一真空通道；

于发射该真空激光后，经由一标的发射器沿该第一方向发射一标的，且该标的经由该真空通道至一激发区域；以及

经由一主激光发射器发射一主脉冲激光至该激发区域内的该标的。

9.如权利要求8所述的光刻方法，还包括于该主脉冲激光照射至该激发区域内的该标的之前，经由一预激光发射器发射一预脉冲激光至该激发区域内的该标的，其中该真空激光的功率小于该预脉冲激光的功率以及该主脉冲激光的功率。

10.如权利要求8所述的光刻方法，其中该真空激光离子化该激发腔内的气体以形成该真空通道。