[发明专利]增强图像传感器近红外性能的像素单元结构和形成方法在审

专利信息
申请号: 201810908463.6 申请日: 2018-08-10
公开(公告)号: CN109216388A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 顾学强;周雪梅;奚鹏程 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司;成都微光集电科技有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;张磊
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种增强图像传感器近红外性能的像素单元结构,包括:硅衬底;设于硅衬底正面的光电二极管和传输管栅极;设于硅衬底正面下方的层间介质层;设于层间介质层中的金属互连层和金属反射层,金属反射层对应位于光电二极管的下方;金属反射层具有面向光电二极管设置的弧形凹面,弧形凹面用于对自硅衬底背面入射的光线进行聚光,并再次反射至光电二极管中实现光电转换,保证了近红外光在硅衬底里吸收比例的大幅上升,从而实现了对近红外入射光线的有效收集,明显提高了像素单元近红外的量子效率,增强了图像传感器的近红外性能。本发明还公开了一种增强图像传感器近红外性能的像素单元结构的形成方法。
搜索关键词: 光电二极管 红外性能 硅衬底 像素单元结构 金属反射层 增强图像 传感器 层间介质层 弧形凹面 金属互连层 图像传感器 光电转换 近红外光 量子效率 入射光线 像素单元 有效收集 传输管 硅衬 聚光 入射 反射 背面 吸收 保证
【主权项】:
1.一种增强图像传感器近红外性能的像素单元结构,其特征在于,包括:硅衬底;设于所述硅衬底正面的光电二极管和传输管栅极;设于所述硅衬底正面下方的层间介质层;设于所述层间介质层中的金属互连层和金属反射层,所述金属反射层对应位于光电二极管的下方;其中;所述金属反射层具有面向光电二极管设置的弧形凹面,所述弧形凹面用于对自硅衬底背面入射的光线进行聚光,并再次反射至光电二极管中。
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