[发明专利]一种独立金属薄膜制备方法及金属薄膜在审
| 申请号： | 201810753153.1 | 申请日： | 2018-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN109136846A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 龚国华;何江 | 申请（专利权）人： | 深圳通感微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/30;C23C14/34;C23C14/02 |
| 代理公司： | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 | 代理人： | 林俭良;冯小梅 |
| 地址： | 518034 广东省深圳市福田区红*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种独立金属薄膜制备方法及金属薄膜，该方法包括：S1、旋涂转移涂层：选择表面满足光学级平整度的衬底，对衬底进行清洗烘干并在衬底表面上旋涂转移涂层；S2、固化：蒸发并冷却旋涂转移涂层后的衬底，以固化转移涂层；S3、沉积：选用金属材料，在固化的转移涂层表面沉积以生成预设厚度的金属薄膜；S4、剥离：在常温下将带有金属薄膜的衬底置于可溶解转移涂层的有机溶剂中，以分离金属薄膜；S5、转移：保持金属薄膜为展开状态并转移金属薄膜至无氧条件下烘干，以得到最终的独立金属薄膜。实施本发明能够获取满足要求的独立金属薄膜制备，方法简单易行，且成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 金属薄膜 转移涂层 独立金属薄膜 衬底 制备 固化 旋涂 表面沉积 衬底表面 分离金属 金属材料 清洗烘干 无氧条件 有机溶剂 展开状态 常温下 光学级 可溶解 平整度 烘干 上旋 预设 沉积 薄膜 冷却 蒸发 剥离 | ||
【主权项】：
1.一种独立金属薄膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、旋涂转移涂层：选择表面满足光学级平整度的衬底，对所述衬底进行清洗烘干并在所述衬底表面上旋涂转移涂层；S2、固化：蒸发并冷却旋涂所述转移涂层后的衬底，以固化所述转移涂层；S3、沉积：选用金属材料，在固化的转移涂层表面沉积以生成预设厚度的金属薄膜；所述沉积包括：在真空条件下充入氩气，并通过溅射电源在所述转移涂层表面沉积生成所述金属薄膜；或在真空条件下通过电子束电源对所述金属材料加热气化，以在所述转移涂层表面沉积生成所述金属薄膜；S4、剥离：在常温下将带有所述金属薄膜的衬底置于可溶解所述转移涂层的有机溶剂中，以分离所述金属薄膜；S5、转移：保持所述金属薄膜为展开状态并转移所述金属薄膜至无氧条件下烘干，以得到最终的独立金属薄膜。
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