[发明专利]一种PERC电池背场激光开槽图形在审

专利信息
申请号: 201810725876.0 申请日: 2018-07-04
公开(公告)号: CN109301001A 公开(公告)日: 2019-02-01
发明(设计)人: 黎剑骑;孙涌涛;楼彩霞;彭兴 申请(专利权)人: 横店集团东磁股份有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 322118 *** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: PERC电池背场激光开槽图形,单硅晶片上设有背电极、直线开槽区、线段开槽区。在每个线段开槽区内,每个头尾相邻的两个线段开槽区间间均设有一个间隔区。线段开槽区和间隔区设在相应的相邻两个的直线开槽区之间的区域内,或者设在最边上的一个直线开槽区与相应的单硅晶片边缘之间。若干背电极均分成若干背电极组,同一个背电极组中两个相邻背电极间的前后间距相等,相邻两个背电极组件间的相邻两个背电极的左右间距相等。优点是:具有既能够有效的保留更多面积的钝化膜区域,减少对背钝化层的破坏作用,同时,又能够改善因线段开槽所带来铝硅接触电阻大的问题,从而提高太阳电池片开路电压、短路电流,进而最终提升太阳电池片的转换效率。
搜索关键词: 背电极 线段 开槽区 开槽 太阳电池片 激光开槽 间距相等 间隔区 背场 单硅 电池 短路电流 接触电阻 晶片边缘 开路电压 转换效率 钝化层 钝化膜 晶片 铝硅 保留
【主权项】:
1.一种PERC电池背场激光开槽图形,包括单硅晶片、单硅晶片上设有若干背电极(1);其特征是:单硅晶片上还设有若干直线开槽区(2)、若干线段开槽区(3);在每个线段开槽区(3)内,每个头尾相邻的两个线段开槽区间间均设有一个间隔区(4);线段开槽区(3)和间隔区(4)设在相应的相邻两个的直线开槽区(2)之间的区域内,或者设在最边上的一个直线开槽区(2)与相应的单硅晶片边缘之间;若干背电极(1)均分成若干背电极组,同一个背电极组中两个相邻背电极(1)间的前后间距相等,相邻两个背电极组件间的相邻两个背电极(1)的左右间距相等。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于横店集团东磁股份有限公司,未经横店集团东磁股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810725876.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top