[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示面板有效
| 申请号： | 201810688010.7 | 申请日： | 2018-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN108873453B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | 聂晓辉 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种彩膜基板及其制备方法、显示面板，该彩膜基板的制备方法包括：提供衬底基板；在衬底基板上依次形成遮光层、色阻块、覆盖层、离子吸收层；待离子吸收层充分吸收遮光层、色阻块、覆盖层中的至少一种离子杂质后，去除掉离子吸收层。通过离子吸收层能充分吸收遮光层、色阻块、覆盖层中的离子杂质，充分吸收后再将该离子吸收层去除掉，从而能降低彩膜基板中离子杂质的浓度，进而降低画面残留的发生，提高显示质量。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上依次形成遮光层、色阻块、覆盖层、离子吸收层；待所述离子吸收层充分吸收所述遮光层、所述色阻块、所述覆盖层中的至少一种离子杂质后，去除掉所述离子吸收层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810688010.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：液晶显示装置
- 下一篇：主动发光集成式彩色显示面板及其制作方法、显示装置
