[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上依次形成遮光层、色阻块、覆盖层、离子吸收层；

待所述离子吸收层充分吸收所述遮光层、所述色阻块、所述覆盖层中的至少一种离子杂质后，去除掉所述离子吸收层；

其中，所述在所述衬底基板上依次形成遮光层、色阻块、覆盖层、离子吸收层的步骤包括：

在所述衬底基板上依次形成遮光层、色阻块、覆盖层；

通过涂布机在所述覆盖层上涂布一层厚度为2微米～2.5微米的离子吸收层。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述离子吸收层为冠醚和/或冠醚衍生物层，所述冠醚分子中含有多个-OCH₂CH₂-结构单元。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述待所述离子吸收层充分吸收所述遮光层、所述色阻块、所述覆盖层中的至少一种离子杂质后，去除掉所述离子吸收层的步骤包括：

对含有所述离子吸收层的所述衬底基板在70摄氏度～90摄氏度的环境中进行烘烤，使所述离子吸收层充分吸收所述遮光层、所述色阻块、所述覆盖层中的至少一种所述离子杂质；

充分吸收所述离子杂质后，通过清洗液进行清洗的方式将所述离子吸收层去除掉。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，对所述离子吸收层在70摄氏度～90摄氏度的环境中进行烘烤的步骤包括：

将涂布有离子吸收层的所述衬底基板放入恒温箱中，并将所述恒温箱的温度设置为70摄氏度～90摄氏度；

对涂布有离子吸收层的所述衬底基板持续进行烘烤8分钟～12分钟。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述通过清洗液进行清洗的方式将所述离子吸收层去除掉的步骤包括：

通过异丙醇对所述离子吸收层进行清洗4分钟～6分钟。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述通过异丙醇对所述离子吸收层进行清洗4分钟～6分钟的步骤之后还包括：

对所述衬底基板进行干燥处理；

在所述覆盖层上形成配向膜层。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述覆盖层的材质为有机光阻。

8.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板为根据权利要求1～7任一项所述的方法制成的彩膜基板。

9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括如权利要求8所述的彩膜基板。