[发明专利]叠对误差测量结构以及叠对误差测量方法有效
| 申请号： | 201810671085.4 | 申请日： | 2018-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN109581832B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 陈彦良 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;H01L21/66;H01L23/544 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开提供一种叠对误差测量结构以及叠对误差测量方法。一种叠对误差测量结构，包括配置在一基板上的一下层图案，以及配置在下层图案上并且与下层图案至少有部分重叠的一上层图案。下层图案包括多个第一子图案，第一子图案沿着一第一方向延伸并且沿着一第二方向排列，其中第二方向与第一方向交错。上层图案包括多个第二子图案，第二子图案沿着第一方向延伸并且沿着第二方向排列。在至少一部分上述第一子图案和/或至少一部分上述第二子图案中的一图案间距和一图案宽度的至少一者沿着上述第二方向变化。 | ||
| 搜索关键词： | 误差 测量 结构 以及 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种叠对误差测量结构，包括：一下层图案，被配置在一基板上；以及一上层图案，被配置在上述下层图案上，并且与上述下层图案至少有部分重叠，其中：上述下层图案包括多个第一子图案，上述第一子图案沿着一第一方向延伸并且沿着一第二方向排列，其中上述第二方向与上述第一方向交错，上述上层图案包括多个第二子图案，上述第二子图案沿着上述第一方向延伸并且沿着上述第二方向排列，在至少一部分上述第一子图案和/或至少一部分上述第二子图案中的一图案间距和一图案宽度的至少一者沿着上述第二方向变化。
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