[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201810642212.8 | 申请日： | 2018-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN109119320A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 砂金优 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够获得均匀的等离子体空间的等离子体处理装置。等离子体处理装置包括：处理容器、载置台、遮护部件、开口用的可升降的闸门、第1驱动部和第2驱动部。处理容器具有侧壁，在该侧壁形成有被处理体的搬入搬出用的输送通路。载置台设置在处理容器内。遮护部件以包围盖载置台的方式沿上述侧壁的内表面设置。在该遮护部件形成有面对输送通路的开口。第1驱动部使闸门升降。第2驱动部使闸门相对于遮护部件在前后方向移动。 | ||
| 搜索关键词： | 遮护 等离子体处理装置 处理容器 载置台 侧壁 驱动 输送通路 闸门 开口 等离子体空间 前后方向移动 被处理体 部件形成 闸门升降 可升降 内表面 搬出 搬入 包围 | ||
【主权项】：
1.一种用于对被处理体进行等离子体处理的等离子体处理装置，其特征在于，包括：具有侧壁的处理容器，该侧壁形成有被处理体的搬入搬出用的输送通路；设置于所述处理容器内的载置台；以包围所述载置台的方式沿所述侧壁的内表面设置的遮护部件，其形成有面对所述输送通路的开口；所述遮护部件的开口用的可升降的闸门；使所述闸门升降的第1驱动部；和使所述闸门相对于所述遮护部件在前后方向移动的第2驱动部。
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