[发明专利]检查气体供给系统的方法

摘要

本发明提供一种检查气体供给系统的方法。本发明的一实施方式中，在基板处理装置的腔室连接有气体供给管路。在气体供给管路连接有气化器。在气体供给管路与气化器并列地经由二级阀连接有流量控制器。在流量控制器的一级侧设置有一级阀。一实施方式的方法包括：在一级阀关闭且二级阀开启并且排气装置动作而将腔室的压力设定为规定压力的状态下，从气化器经由气体供给管路向腔室供给处理气体的工序；及在执行供给处理气体的工序的期间，求出通过流量控制器的压力传感器获取的测定值的时间平均值的工序。

主权项

1.一种检查基板处理装置的气体供给系统的方法，其中，所述基板处理装置具备：腔室主体，提供腔室；所述气体供给系统，以向所述腔室供给气体的方式构成；及排气装置，与所述腔室连接，所述气体供给系统具有第1气体供给单元，所述第1气体供给单元具有：配管，提供与所述腔室连接的第1气体供给管路；气化器，以通过使液体气化来产生第1处理气体的方式构成，且与所述第1气体供给管路连接；第1一级阀；第1二级阀；及第1流量控制器，经由所述第1一级阀与第1惰性气体源连接，且经由所述第1二级阀与所述第1气体供给管路连接，所述第1流量控制器具有以获取该第1流量控制器内的流路的压力的测定值的方式构成的一个或两个第1压力传感器，该方法包括：在所述第1一级阀关闭且所述第1二级阀开启并且所述排气装置动作而将所述腔室的压力设定为规定压力的状态下，从所述气化器经由所述第1气体供给管路向所述腔室供给所述第1处理气体的工序；及在执行供给所述第1处理气体的所述工序的期间，求出通过所述一个或两个第1压力传感器获取的所述测定值的时间平均值的工序。