[发明专利]基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法有效
| 申请号： | 201810631082.8 | 申请日： | 2018-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN109064441B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 史超超 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T5/00;G06T7/11;G06T7/136;G06T7/194;G06K9/62 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂;王中华 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法。该方法包括如下步骤：将N张输入图像分别组合成一个混合矩阵；对混合矩阵进行ICA变换，获得N个独立成分；选定N张输入图像中的一张输入图像作为比较图像，分别计算每一个独立成分与所述比较图像之间的SSIM值；设定各个独立成分的背景范围并统计各个独立成分中亮度极值点数量；根据SSIM值及各个亮度极值点数量计算各个独立成分的比较值，并选择比较值最大的独立成分作为目标独立成分；对目标独立成分进行ICA逆变换，得到缺陷增强图像，并选择缺陷阈值对所述缺陷增强图像进行缺陷分割，能够取代人眼自适应选择目标独立成分，满足生产自动化的需要。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 独立 成分 自适应 选择 mura 侦测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、将N张输入图像分别转换为一维向量，并组合成一个混合矩阵，N为大于1的整数；步骤S2、对混合矩阵进行ICA变换，获得N个独立成分；步骤S3、选定N张输入图像中的一张输入图像作为比较图像，分别计算每一个独立成分与所述比较图像之间的SSIM值；步骤S4、设定各个独立成分的背景范围并统计各个独立成分中亮度极值点数量，所述亮度极值点数量为独立成分中灰阶值位于其背景范围外的像素的数量；步骤S5、根据各个独立成分的SSIM值及各个独立成分的亮度极值点数量计算各个独立成分的比较值，并选择比较值最大的独立成分作为目标独立成分；所述比较值的计算公式为：Q＝SSIM+w/M，其中Q为独立成分的比较值，SSIM为独立成分的SSIM值，w为与SSIM值相关的系数，M为独立成分的亮度极值点数量；步骤S6、对目标独立成分进行ICA逆变换，得到缺陷增强图像，并选择缺陷阈值对所述缺陷增强图像进行缺陷分割。
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