[发明专利]一种AMOLED薄膜封装结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810549801.1 申请日: 2018-05-31
公开(公告)号: CN108878676A 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 曹绪文 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/50;H01L27/32
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种AMOLED薄膜封装结构,其上用于设置触控电极层,包括第一陶瓷层、有机物层和第二陶瓷层。其中所述第二陶瓷层包括第一膜层和第二膜层,所述第二膜层位于所述第一膜层上,且其侧端向内收缩进而在所述第二膜层和第一膜层的侧端处形成一个内凹的第一台阶部。本发明将现有的第二陶瓷层的厚单层结构设计改为多薄膜层叠加结构设计,并在上下膜层侧端处设置内凹的台阶部,从而可以有效的降低第二陶瓷层的侧端部对触控电极层引线的影响,使其有较大的空间位置放置,从而使其不易断裂,进而保证了良率以及产品性能。
搜索关键词: 陶瓷层 第一膜层 侧端 膜层 薄膜封装结构 触控电极层 台阶部 内凹 产品性能 单层结构 空间位置 有机物层 侧端部 上下膜 良率 向内 薄膜 断裂 收缩 制造 保证
【主权项】:
1.一种AMOLED薄膜封装结构,其上用于设置触控电极层,包括第一陶瓷层、有机物层和第二陶瓷层;其特征在于,其中所述第二陶瓷层包括第一膜层和第二膜层;其中所述第二膜层位于所述第一膜层上,且其侧端向内收缩进而使得所述第二膜层和第一膜层的侧端处形成有一个内凹的第一台阶部。
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