[发明专利]一种双晶体管硅片切割工艺在审

专利信息
申请号: 201810532975.7 申请日: 2018-05-29
公开(公告)号: CN108582537A 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 顾雨彤;何显文 申请(专利权)人: 顾雨彤
主分类号: B28D5/04 分类号: B28D5/04;B28D7/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610599 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于多晶硅片生产技术领域,具体的说是一种双晶体管硅片切割工艺,包括如下步骤:选择纯度好的工业硅;将选好的工业硅进行水平区熔单向凝固成硅锭;去除硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分;进行第二次水平区熔单向凝固成硅锭;去除第二次区熔硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分;在电子束溶解炉中去除磷和碳杂质,生成多晶硅;利用双晶体管硅片切割器将生产的多晶硅切片形成多晶硅片。本发明提出了一种双晶体管硅片切割工艺,本发明主要用于对硅片进行定量切割,切割均匀,实现流水线化生产,减轻工作人员的工作量,提高了工作效率。
搜索关键词: 双晶体管 硅片切割 硅锭 去除 单向凝固 多晶硅片 金属杂质 多晶硅 工业硅 水平区 硅片 切割 电子束 工作效率 流水线化 生产技术 切割器 溶解炉 碳杂质 次区 切片 熔硅 工作量 生产
【主权项】:
1.一种双晶体管硅片切割工艺,其特征在于:包括如下步骤:步骤一:选料,选择纯度好的工业硅;步骤二:步骤一中的工业硅选择好后,将选好的工业硅进行水平区熔单向凝固成硅锭;步骤三:步骤二中的硅锭凝固后,去除硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分;步骤四:步骤三中的硅锭去除杂质后,进行第二次水平区熔单向凝固成硅锭;步骤五:步骤四中的二次凝固后,去除第二次区熔硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分;步骤六:步骤五中的硅锭二次去杂,在电子束溶解炉中去除磷和碳杂质,生成多晶硅;步骤七:步骤六中的多晶硅生产后,利用双晶体管硅片切割器将生产的多晶硅切片形成多晶硅片;所述步骤七中的双晶体管硅片切割器包括固定架(1)、凸轮(2)、电机一(3)、皮带轮一(4)、皮带(5)、导向杆(6)、升降杆(7)、弹簧一(8)、切割模块(9)、压片模块(10)和推送模块(11),所述的电机一(3)通过支杆安装在固定架(1)上;所述的皮带轮一(4)安装在电机一(3)的电机轴上;所述的皮带(5)套在皮带轮一(4)上;所述的凸轮(2)安装在电机一(3)的电机轴上,凸轮(2)上安装有一圈电磁铁一;所述的导向杆(6)安装在固定架(1)上,导向杆(6)上开设有方孔;所述的升降杆(7)穿过导向杆(6)的方孔,升降杆(7)位于凸轮(2)的下方,升降杆(7)中间开设有长方形凹槽,升降杆(7)的上端设有电磁铁二,电磁铁一和电磁铁二通电时磁极相反;所述的弹簧一(8)的一端固定在升降杆(7)上,弹簧一(8)的另一端固定在导向杆(6)上;所述的切割模块(9)安装在升降杆(7)的下端,切割模块(9)用于对硅片进行切割;所述的压片模块(10)位于升降杆(7)的长方形凹槽中,压片模块(10)用于切割模块(9)工作时对硅片进行压紧;所述的推送模块(11)位于固定架(1)上,推送模块(11)用于推送硅片到切割模块(9)的正下方。
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