[发明专利]一种双晶体管硅片切割工艺在审
| 申请号: | 201810532975.7 | 申请日: | 2018-05-29 |
| 公开(公告)号: | CN108582537A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
| 发明(设计)人: | 顾雨彤;何显文 | 申请(专利权)人: | 顾雨彤 |
| 主分类号: | B28D5/04 | 分类号: | B28D5/04;B28D7/04 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 610599 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 双晶体管 硅片切割 硅锭 去除 单向凝固 多晶硅片 金属杂质 多晶硅 工业硅 水平区 硅片 切割 电子束 工作效率 流水线化 生产技术 切割器 溶解炉 碳杂质 次区 切片 熔硅 工作量 生产 | ||
本发明属于多晶硅片生产技术领域,具体的说是一种双晶体管硅片切割工艺,包括如下步骤:选择纯度好的工业硅;将选好的工业硅进行水平区熔单向凝固成硅锭;去除硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分;进行第二次水平区熔单向凝固成硅锭;去除第二次区熔硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分;在电子束溶解炉中去除磷和碳杂质,生成多晶硅;利用双晶体管硅片切割器将生产的多晶硅切片形成多晶硅片。本发明提出了一种双晶体管硅片切割工艺,本发明主要用于对硅片进行定量切割,切割均匀,实现流水线化生产,减轻工作人员的工作量,提高了工作效率。
技术领域
本发明属于多晶硅片生产技术领域,具体的说是一种双晶体管硅片切割工艺。
背景技术
由两个背靠背PN结构成的以获得电压、电流或信号增益的晶体三极管。起源于1948年发明的点接触晶体三极管,50年代初发展成结型三极管即现在所称的双极型晶体管。双极型晶体管有两种基本结构:PNP型和NPN型。在这3层半导体中,中间一层称基区,外侧两层分别称发射区和集电区。当基区注入少量电流时,在发射区和集电区之间就会形成较大的电流,这就是晶体管的放大效应。
双极性晶体管的制作需要硅片,硅片需要切割成一片一片,硅片的厚薄程度是有一定的规格的,若切割不均匀对后期硅片的检测非常麻烦,对工作人员的工作造成一定的影响,从而加重了工作人员的工作量,进而降低了工作效率。所以本发明提供一种双晶体管硅片切割工艺,实现流水线化生产工艺,切割硅片均匀,减轻工作人员的工作量,提高工作效率。
发明内容
为了弥补现有技术的不足,本发明提出了一种双晶体管硅片切割工艺,本发明主要用于对硅片进行定量切割,切割均匀,实现流水线化生产,减轻工作人员的工作量,提高了工作效率。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:本发明所述的一种双晶体管硅片切割工艺,包括如下步骤:
步骤一:选料,选择纯度好的工业硅;
步骤二:步骤一中的工业硅选择好后,将选好的工业硅进行水平区熔单向凝固成硅锭;
步骤三:步骤二中的硅锭凝固后,去除硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分;
步骤四:步骤三中的硅锭去除杂质后,进行第二次水平区熔单向凝固成硅锭;
步骤五:步骤四中的二次凝固后,去除第二次区熔硅锭中金属杂质聚集的部分和外表部分;
步骤六:步骤五中的硅锭二次去杂,在电子束溶解炉中去除磷和碳杂质,生成多晶硅;
步骤七:步骤六中的多晶硅生产后,利用双晶体管硅片切割器将生产的多晶硅切片形成多晶硅片;
所述步骤七中的双晶体管硅片切割器包括固定架、凸轮、电机一、皮带轮一、皮带、导向杆、升降杆、弹簧一、切割模块、压片模块和推送模块,所述的电机一通过支杆安装在固定架上;所述的皮带轮一安装在电机一的电机轴上;所述的皮带套在皮带轮一上;所述的凸轮安装在电机一的电机轴上,凸轮上安装有一圈电磁铁一;所述的导向杆安装在固定架上,导向杆上开设有方孔;所述的升降杆穿过导向杆的方孔,升降杆位于凸轮的下方,升降杆中间开设有长方形凹槽,升降杆的上端设有电磁铁二,电磁铁一和电磁铁二通电时磁极相反;所述的弹簧一的一端固定在升降杆上,弹簧一的另一端固定在导向杆上;所述的切割模块安装在升降杆的下端,切割模块用于对硅片进行切割;所述的压片模块位于升降杆的长方形凹槽中,压片模块用于切割模块工作时对硅片进行压紧;所述的推送模块位于固定架上,推送模块用于推送硅片到切割模块的正下方。
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