[发明专利]高导热性相变温控复合封装基板的制备方法在审
申请号: | 201810516946.1 | 申请日: | 2018-05-25 |
公开(公告)号: | CN108831837A | 公开(公告)日: | 2018-11-16 |
发明(设计)人: | 林奈;阎德劲;赖复尧;苏欣 | 申请(专利权)人: | 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/367;H01L23/373;H01L23/427 |
代理公司: | 成飞(集团)公司专利中心 51121 | 代理人: | 郭纯武 |
地址: | 610036 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种高导热性相变温控复合封装基板的制备方法,利用本发明方便地将低熔点合金固态相变材料直接集成在LTCC‑AlN复合基板内,形成集成度高、导热率高的相变温控装置,本发明通过下述技术方案予以实现:在多层AlN生瓷片的中间AlN生瓷片上制出相变温控腔,再经叠层等静压共烧,形成内嵌相变温控腔夹层的氮化铝AlN基板;并在LTCC生瓷片基板上制出以矩阵分布的电子元件安装腔体,再将AlN基板和LTCC生瓷片基板层压一体,进行共烧,形成可以埋入电子有源器件的LTCC‑AlN复合基板,最后将低熔点合金固态相变材料加热熔化至液态并灌注到复合基板的相变温控腔内,并通过密封盖板进行密封,完成高导热性相变温控复合基板的制备。 | ||
搜索关键词: | 基板 复合基板 生瓷片 高导热性 温控腔 温控 制备 固态相变材料 低熔点合金 复合封装 共烧 电子元件安装腔 相变温控装置 基板层压 加热熔化 矩阵分布 密封盖板 氮化铝 导热率 等静压 集成度 源器件 夹层 叠层 多层 埋入 内嵌 灌注 密封 | ||
【主权项】:
1.一种高导热性相变温控复合封装基板的制备方法,具有如下技术特征:在至少三层AlN生瓷片的中间AlN生瓷片上制出相变温控腔(4),再经过叠层、等静压、共烧工序,形成内嵌相变温控腔夹层的氮化铝AlN基板(7);并在LTCC生瓷片基板(15)上制出以矩阵分布的电子元件安装腔体(11),然后将AlN基板和LTCC生瓷片基板层压在一起,再进行共烧,形成可以埋入电子有源器件或热敏感有源器件的LTCC‑AlN复合基板(12),然后将低熔点合金固态相变材料(16)加热熔化至液态并灌注到复合基板的相变温控腔内,最后通过密封盖板(14)进行密封,完成高导热性相变温控复合基板的制备。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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