[发明专利]一种利用分子和原子层沉积技术制备气体过滤膜的方法与应用

摘要

本发明公开了一种利用分子和原子层沉积技术制备气体过滤膜的方法与应用。该方法包括以下步骤：采用分子层沉积技术将氧化锡传感膜表面沉积一层MLD薄膜，然后煅烧除去其中的有机部分，形成Al2O3微孔膜；将上述材料置于ALD反应器的反应腔内，通过沉积形成ALD薄膜，根据需要循环ALD，即得气体过滤膜。本发明气体过滤膜测试气体时可以通过Al2O3层的微孔并且与敏感层接触导致传感器电阻的变化，通过继续堆叠非致密ALD薄膜，使得非致密ALD薄膜具有一定的厚度并且具有相对于第一部分较小的孔径，通过孔道阻力和不断缩小的孔径来阻挡大分子气体的扩散，有效地解决SnO2传感器H2选择性差的问题。

主权项

1.一种利用分子和原子层沉积技术制备气体过滤膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，采用分子层沉积技术将氧化锡传感膜表面沉积一层MLD薄膜，然后煅烧除去其中的有机部分，形成Al2O3微孔膜；步骤2，将步骤1材料置于ALD反应器的反应腔内，通过沉积形成ALD薄膜，根据需要循环ALD，即得气体过滤膜。