[发明专利]一种偏光器件及其制备方法、显示基板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201810478715.6 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN108680982B 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 董水浪;路达;刘清召;王国强;曹占锋;王久石 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/11
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;胡影
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种偏光器件及其制备方法、显示基板和显示装置,涉及显示技术领域,其中,该偏光器件包括:衬底基板、金属线栅和减反层,所述金属线栅设置在所述衬底基板上,所述减反层设置在所述金属线栅的上表面,所述减反层为碳膜层。该碳膜层可以吸收照射在金属线栅表面的至少部分环境光,从而可以减少偏光器件中金属线栅对环境光的反射。当该偏光器件应用于显示装置上时,可以提高显示对比度,进而提高显示效果。
搜索关键词: 一种 偏光 器件 及其 制备 方法 显示 显示装置
【主权项】:
1.一种偏光器件,其特征在于,包括:衬底基板、金属线栅和减反层,所述金属线栅设置在所述衬底基板上,所述减反层设置在所述金属线栅的上表面,所述减反层为碳膜层。
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