[发明专利]一种偏光器件及其制备方法、显示基板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201810478715.6 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN108680982B 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 董水浪;路达;刘清召;王国强;曹占锋;王久石 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/11
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;胡影
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 偏光 器件 及其 制备 方法 显示 显示装置
【说明书】:

发明提供一种偏光器件及其制备方法、显示基板和显示装置,涉及显示技术领域,其中,该偏光器件包括:衬底基板、金属线栅和减反层,所述金属线栅设置在所述衬底基板上,所述减反层设置在所述金属线栅的上表面,所述减反层为碳膜层。该碳膜层可以吸收照射在金属线栅表面的至少部分环境光,从而可以减少偏光器件中金属线栅对环境光的反射。当该偏光器件应用于显示装置上时,可以提高显示对比度,进而提高显示效果。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种偏光器件及其制备方法、显示基板和显示装置。

背景技术

液晶显示的工作原理是利用液晶的双折射性质,通过电压控制液晶的转动,使经过下偏光片后的线偏振光随之发生旋转,从上偏光片(与下偏光片的偏振方向垂直)射出,从而上、下偏光片加上液晶盒起到光开关(或光阀)的作用。与传统的吸收型偏光片相比,金属线栅偏光片能够透过偏振方向垂直于线栅方向的入射光,而将偏振方向平行于线栅方向的入射光反射,金属线栅偏光片透过入射光的能力远远大于传统的吸收型偏光片。

然而,金属线栅偏光片由于采用金属材料制成,因而会反射环境光,影响显示效果。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种偏光器件及其制备方法、显示基板和显示装置,用于解决金属线栅反射环境光影响显示效果的问题。

为解决上述技术问题,第一方面,本发明提供一种偏光器件,包括:衬底基板、金属线栅和减反层,所述金属线栅设置在所述衬底基板上,所述减反层设置在所述金属线栅的上表面,所述减反层为碳膜层。

优选地,所述碳膜层的表面凹凸不平。

优选地,所述碳膜层的材料为碳或者含碳聚合物。

优选地,还包括:绝缘层和平坦化层,所述绝缘层覆盖在所述减反层上,所述平坦化层覆盖所述绝缘层、所述减反层、所述金属线栅和所述衬底基板。

第二方面,本发明还提供一种显示基板,包括上述任一种偏光器件;所述偏光器件的衬底基板与所述显示基板的衬底基板复用。

第三方面,本发明还提供一种显示装置,包括上述任一种偏光器件,或者,包括上述的显示基板。

第四方面,本发明还提供一种偏光器件的制备方法,用于制备上述任一种偏光器件,包括:

提供一衬底基板;

在所述衬底基板上形成金属线栅,并在所述金属线栅的上表面形成减反层,所述减反层为碳膜层。

优选地,所述在所述衬底基板上形成金属线栅,并在所述金属线栅的上表面形成减反层的步骤包括:

在所述衬底基板上形成金属层;

在所述金属层上涂覆光阻胶;

将所述光阻胶图案化,形成光阻胶图形;

对未被所述光阻胶图形覆盖的所述金属层进行刻蚀,形成金属线栅;

对所述光阻胶图形进行脱氢碳化处理,形成所述减反层。

优选地,采用干法刻蚀工艺或高温退火工艺对所述光阻胶图形进行脱氢碳化处理。

优选地,所述对所述光阻胶图形进行脱氢碳化处理,形成所述减反层的步骤包括:

将形成有金属线栅和所述光阻胶图形的所述衬底基板置于干刻设备中,所述干刻设备中通有氧气与六氟化硫的混合气体;

激发所述混合气体产生等离子体,轰击所述光阻胶图形,使得所述光阻胶图形脱氢碳化形成所述减反层。

本发明的上述技术方案的有益效果如下:

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