[发明专利]一种半导体干蚀刻装备的分离型上部电极在审

专利信息
申请号: 201810477311.5 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN108550537A 公开(公告)日: 2018-09-18
发明(设计)人: 尹英世 申请(专利权)人: 合肥微睿光电科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种半导体干蚀刻装备的分离型上部电极,包括水平设置的气体供给盘,气体供给盘同轴套设有连接环,气体供给盘外壁同轴固接有一号限位环,一号限位环的环体开设有若干一号通孔,连接环内壁同轴固接有二号限位环,二号限位环开设有若干二号通孔,二号通孔与一号通孔位置相对应,一号通孔与二号通孔内共同插设有堵栓,堵栓上端固接有限位块,堵栓的下端开设有三号通孔,三号通孔的开口处均设有限位凸起,三号通孔的两端均设有活动块,三号通孔内设有弹簧,活动块远离弹簧的一端均固接有顶块。本发明中,上部电极中的气体供给盘与连接环为可拆卸连接,从而方便后期更换以及维修,且安装以及拆卸过程都极为简易。
搜索关键词: 通孔 气体供给 限位环 上部电极 连接环 一号通 堵栓 同轴固接 分离型 干蚀刻 活动块 弹簧 固接 半导体 可拆卸连接 水平设置 开口处 孔位置 盘外壁 上端 顶块 环体 内壁 凸起 位块 下端 轴套 拆卸 简易 维修
【主权项】:
1.一种半导体干蚀刻装备的分离型上部电极,包括水平设置的气体供给盘(1),所述气体供给盘(1)均匀设有多个气体喷射孔(2),所述气体供给盘(1)同轴套设有连接环(6),所述连接环(6)开设有多个连接孔(9),其特征在于,所述气体供给盘(1)外壁同轴固接有一号限位环(3),所述一号限位环(3)的环体开设有若干一号通孔(4),所述一号通孔(4)纵向设置,所述连接环(6)内壁同轴固接有二号限位环(7),所述二号限位环(7)设置在所述一号限位环(3)下方,所述二号限位环(7)开设有若干二号通孔(8),所述二号通孔(8)与所述一号通孔(4)位置相对应,所述一号通孔(4)与所述二号通孔(8)内共同插设有堵栓(11),所述堵栓(11)上端固接有限位块(12),所述堵栓(11)的下端开设有三号通孔(13),所述三号通孔(13)水平设置,所述三号通孔(13)的开口处均设有限位凸起(14),所述三号通孔(13)的两端均设有活动块(15),所述活动块(15)通过所述限位凸起(14)限位在所述三号通孔(13)内,所述三号通孔(13)内设有弹簧(16),所述弹簧(16)的两端分别与所述活动块(15)接触,所述活动块(15)远离所述弹簧(16)的一端均固接有顶块(17),所述顶块(17)设置在所述二号通孔(8)的下方。
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