[发明专利]一种双异质结钙钛矿光电器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810466984.0 申请日: 2018-05-16
公开(公告)号: CN108682747B 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 贾仁需;李欢;汪钰成;庞体强 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L51/48 分类号: H01L51/48;H01L51/46;H01L51/42;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 王海栋
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种双异质结钙钛矿光电器件及其制备方法,所述制备方法包括:选取Si衬底;在Si衬底的一侧表面沉积金属Al形成下电极;在Si衬底的另一侧表面沉积金属氧化物形成界面缓冲层;在界面缓冲层上沉积CH3NH3PbI3形成光吸收层;在光吸收层上沉积金属Au形成上电极,形成双异质结钙钛矿光电器件。该双异质结钙钛矿光电器件依次包括上电极、CH3NH3PbI3光吸收层、界面缓冲层、Si衬底和下电极。所述双异质结钙钛矿光电器件在Si衬底与CH3NH3PbI3之间包括界面缓冲层,降低Si衬底与CH3NH3PbI3光吸收层之间的能量失配,减少光生电子与光生空穴的复合,提高光电器件的灵敏度。
搜索关键词: 一种 双异质结钙钛矿 光电 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种双异质结钙钛矿光电器件的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:选取Si衬底;在所述Si衬底的一侧表面沉积金属Al形成下电极;在所述Si衬底的另一侧表面沉积金属氧化物形成界面缓冲层;在所述界面缓冲层上沉积CH3NH3PbI3形成光吸收层;在所述光吸收层上沉积金属Au形成上电极,并最终生成双异质结钙钛矿光电器件。
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