[发明专利]一种BDD膜电极材料及其制备方法有效
申请号: | 201810386838.7 | 申请日: | 2018-04-26 |
公开(公告)号: | CN108486546B | 公开(公告)日: | 2020-04-03 |
发明(设计)人: | 徐帅;闫宁;范波;吴啸;郭兴星;吴晓磊 | 申请(专利权)人: | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/32;C23C16/511;C23C16/02;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/58;C23C28/00;C02F1/461 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 时立新;张丽 |
地址: | 450001 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明提供了一种BDD膜电极材料及其制备方法,属于金刚石膜电极材料领域,以钼、钨或导电硅为基材,基材进行粗化处理使基材表面获得Ra0.5‑1μm的粗糙度,在基材表面沉积过渡层,然后,在所述过渡层表面形成碳化物后进行金刚石的形核和生长,且在金刚石成核期加入含硼物得到含硼的金刚石层,其中,所述过渡层为能够形成共价键碳化物的过渡族金属,所述过渡层与基材形成合金或化合物。本发明得到致密的金刚石层结构,消除了电解产生的离子对基材的损害,有利于获得金刚石膜电极材料长的使用寿命。本发明可实现基材与金刚石层的紧密结合,消除了热膨胀系数差异产生的热应力导致的金刚石层的剥落。 | ||
搜索关键词: | 一种 bdd 电极 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种BDD膜电极材料的制备方法,其特征是,以钼、钨或导电硅为基材,基材进行粗化处理使基材表面获得Ra0.5‑1μm的粗糙度,在基材表面沉积过渡层,然后,在所述过渡层表面形成碳化物后进行金刚石的形核和生长,且在金刚石成核期与生长期加入含硼物得到含硼的金刚石层,其中,所述过渡层为能够形成共价键碳化物的过渡族金属,所述过渡层与基材形成合金或化合物。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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