[发明专利]一种掩模版及蒸镀装置有效
| 申请号： | 201810325468.6 | 申请日： | 2018-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN108441816B | 公开（公告）日： | 2020-11-20 |
| 发明（设计）人： | 张浩瀚 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，公开一种掩模版及蒸镀装置，掩模版设置在待蒸镀基板的PS层上方，包括掩模基板，掩模基板上形成有用于蒸镀有机发光材料的多个掩模图案，在掩模图案的开口处沿开口的形状分布有突出掩模基板一定高度的突出边缘，用于阻挡有机发光材料从掩模版和PS层的间隙进入到掩模图案的开口在待蒸镀基板上投影以外区域，进而能够降低蒸镀工艺的阴影和混色现象，从而提高产品良率，而且通过设置突出边缘阻挡有机发光材料从掩模版和PS层的间隙进入到掩模图案的开口在待蒸镀基板上投影以外区域，可以避免为消除间隙而去除PS层的情况，能够保护掩模版，避免其与待蒸镀基板相接触而受到待蒸镀基板上颗粒物的损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模版 装置 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版，设置在待蒸镀基板的PS层上方，用于蒸镀有机发光材料，其特征在于，包括掩模基板，所述掩模基板上形成有用于蒸镀有机发光材料的多个掩模图案，在所述掩模图案的开口处沿开口的形状分布有突出所述掩模基板一定高度的突出边缘，用于阻挡有机发光材料从掩模版和PS层的间隙进入到所述掩模图案的开口在待蒸镀基板上投影以外区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810325468.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：硅基OLED微显示器的对位装置及制作系统
- 下一篇：掩模板
- 同类专利
- 专利分类
