[发明专利]一种掩模版及蒸镀装置

说明书

本发明涉及显示技术领域，公开一种掩模版及蒸镀装置，掩模版设置在待蒸镀基板的PS层上方，包括掩模基板，掩模基板上形成有用于蒸镀有机发光材料的多个掩模图案，在掩模图案的开口处沿开口的形状分布有突出掩模基板一定高度的突出边缘，用于阻挡有机发光材料从掩模版和PS层的间隙进入到掩模图案的开口在待蒸镀基板上投影以外区域，进而能够降低蒸镀工艺的阴影和混色现象，从而提高产品良率，而且通过设置突出边缘阻挡有机发光材料从掩模版和PS层的间隙进入到掩模图案的开口在待蒸镀基板上投影以外区域，可以避免为消除间隙而去除PS层的情况，能够保护掩模版，避免其与待蒸镀基板相接触而受到待蒸镀基板上颗粒物的损伤。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩模版及蒸镀装置。

背景技术

在显示技术领域，OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板具有全固态、自发光、高对比度、轻薄、低功耗、响应速度快、工作范围宽、易于实现柔性显示等诸多优点，已经逐渐成为显示领域的主流。

OLED显示面板包括阵列排布的多个子像素单元，每一个子像素单元包括阳极、发光层和阴极，其中，发光层采用有机电致有机发光材料形成，目前主要采用掩模版如精细金属掩模版(Fine Metal Mask，FMM)并通过蒸镀工艺制作在各子像素单元中。在此工艺中FMM具有掩模图案，用于将有机材料蒸镀到显示基板的设计位置，是OLED生产至关重要的部件。

如图1所示，在目前有机发光材料05蒸镀过程中，为了支撑和保护FMM04，需要在待蒸镀基板01的PDL层(层间介质层)02上方有PS(柱状隔垫物)层03，但是由于PS层03的存在，导致FMM04与PDL层02之间始终存在空隙，在蒸镀过程中部分有机发光材料05会经FMM04与PDL层02之间的空隙蒸镀到FMM04的掩模图案开口以外的区域，造成蒸镀阴影现象，严重时阴影区会覆盖到相邻子像素单元上，造成最终产品的混色现象，导致产品良率较低，因此，设计一种能够降低蒸镀工艺中的蒸镀阴影的掩模版及蒸镀装置显得尤为重要。

发明内容

本发明提供一种掩模版及蒸镀装置，该掩模版通过设置突出边缘能够降低蒸镀阴影和混色现象，从而提高产品良率，具有该掩模版的蒸镀装置能够降低蒸镀阴影和混色现象，从而提高产品良率。

本发明实施例提供的具体技术方案如下：

一种掩模版，设置在待蒸镀基板的PS层上方，用于蒸镀有机发光材料，包括掩模基板，所述掩模基板上形成有用于蒸镀有机发光材料的多个掩模图案，在所述掩模图案的开口处沿开口的形状分布有突出所述掩模基板一定高度的突出边缘，用于阻挡有机发光材料从掩模版和PS层的间隙进入到所述掩模图案的开口在待蒸镀基板上投影以外区域。

在上述掩模版中，由于在掩模图案的开口处沿开口的形状分布有突出掩模基板一定高度的突出边缘，使得在蒸镀过程中，在待蒸镀基板的PS层上方的掩模版的突出边缘阻挡有机发光材料从掩模版和PS层的间隙进入到所述掩模图案的开口在待蒸镀基板上投影以外区域，进而能够降低蒸镀工艺的阴影和混色现象，从而提高产品良率，而且通过设置突出边缘阻挡有机发光材料从掩模版和PS层的间隙进入到所述掩模图案的开口在待蒸镀基板上投影以外区域，可以避免为消除间隙而去除PS层的情况，能够保护掩模版，避免其与待蒸镀基板相接触而受到待蒸镀基板上颗粒物的损伤。

因此，上述掩模版通过设置突出边缘能够降低蒸镀阴影和混色现象，从而提高产品良率。

优选地，所述突出边缘为在所述掩模图案的开口处沿开口的形状分布、且沿背离所述掩模图案的开口的方向向外延伸的凸台。

优选地，所述突出边缘突出所述掩模基板的高度不大于所述PS层的高度。

优选地，所述突出边缘突出所述掩模基板的高度小于所述PS层的高度。