[发明专利]一种低光细腻釉、釉浆制备方法、釉面砖及制备方法在审
| 申请号： | 201810295395.0 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108395101A | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 罗宏;周燕 | 申请（专利权）人： | 佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;佛山东华盛昌新材料有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/14 | 分类号： | C03C8/14;C04B41/89;C04B41/86 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 528031 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低光细腻釉，低光细腻釉的化学成分为：SiO2 33～55％、Al2O3 15～25％、Fe2O3＜1％、TiO2＜1％、CaO 10～18％、MgO 1～5％、K2O 3～6％、Na2O 2～5％、ZnO 1～2％、BaO 1～2.5％、B2O3 3～5％、ZrO2 3～9％。本发明还公开了一种低光细腻釉的釉浆制备方法、釉面砖、及釉面砖制备方法。通过本发明的低光细腻釉获得的釉面光泽度为4～18度，表面的质感为细腻，防污性能好，解决了行业内釉面不能达到低光细腻的技术难点。 | ||
| 搜索关键词： | 低光 釉面砖 釉浆制备 制备 釉面光泽度 防污性能 技术难点 釉面 质感 | ||
【主权项】：
1.一种低光细腻釉，其特征在于，所述低光细腻釉的化学成分为：SiO2 33～55％、Al2O3 15～25％、Fe2O3＜1％、TiO2＜1％、CaO 10～18％、MgO 1～5％、K2O 3～6％、Na2O 2～5％、ZnO 1～2％、BaO 1～2.5％、B2O3 3～5％、ZrO2 3～9％。
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