[发明专利]一种滤蓝光增透膜及其制备方法

摘要

本发明公开一种滤蓝光增透膜及其制备方法，具体是指在透明基材上生长滤蓝光增透膜，所述增透膜从基材的内面到外依次设有Zn_xCd_1‑xO膜层、Al₂O₃膜层、Zn_xCd_1‑xO膜层、Al₂O₃膜层，所述滤蓝光增透膜的制备方法是在磁控溅射，可根据实际的应用需求，通过调节Zn_xCd_1‑xO膜层中的Cd组分x可制备不同吸收边波长λ的滤蓝光增透膜，滤蓝光增透膜对300~（λ‑15）nm波段范围的蓝光的平均吸收率大于99%，而对（λ+15）~780nm波段范围的可见光的平均透射率大于95%；该增透膜所设计的膜系结构简单，工艺容易实现，可以实现工业化生产。

主权项

1.一种滤蓝光增透膜，其特征在于所述滤蓝光增透膜为不同吸收边波长λ的滤蓝光增透膜；所述滤蓝光增透膜的吸收边波长λ的值为400‑500nm，滤蓝光增透膜对300~（λ‑15）nm波段范围的蓝光的平均吸收率大于99%，而对（λ+15）~780nm波段范围的可见光的平均透射率大于95%；所述滤蓝光增透膜从基材（1）的内面到外依次设有第一层Cd_xZn_1‑xO膜层（2）、第二层Al₂O₃膜层（3）、第三层Cd_xZn_1‑xO膜层（4）、第四层Al₂O₃膜层（5）；所述第一层Cd_xZn_1‑xO膜层（2）和第三层Cd_xZn_1‑xO膜层（4）中的Cd组分x值为0.1‑0.3，对应滤蓝光增透膜的吸收边波长λ的值为400‑500nm；所述滤蓝光增透膜由下述方法制备的：1）根据滤蓝光增透膜预期吸收边波长λ确定第一层Cd_xZn_1‑xO薄膜（2）和第三层Cd_xZn_1‑xO膜层（4）中的Cd组分x值；2）通过薄膜光学的基本知识和分析方法，结合软件进行优化，使滤蓝光增透膜在（λ+15）~780nm波段范围内的平均透射率大于95%，模拟计算得到第一层Cd_xZn_1‑xO膜层（2）的厚度h₁、第二层Al₂O₃膜层（3）的厚度h₂、第三层Cd_xZn_1‑xO膜层（4）的厚度h₃及第四层Al₂O₃膜层（5）的厚度h₄；3）采用双靶反应磁控共溅射方法在透明基材（1）上生长出第一层Cd_xZn_1‑xO薄膜（2），厚度h₁为15‑25nm；4）采用磁控溅射方法在第一层Cd_xZn_1‑xO薄膜（2）上面生长第二层Al₂O₃薄膜（3），厚度h₂为30‑50nm；5）采用双靶反应磁控共溅射方法在第二层Al₂O₃薄膜（3）上生长第三层Cd_xZn_1‑xO薄膜（4），厚度h₃为65‑95nm；6）采用磁控溅射方法在第三层Cd_xZn_1‑xO薄膜（4）上面生长第四层Al₂O₃薄膜（5），厚度h₄为80‑100nm；最终制备获得滤蓝光增透膜。