[发明专利]抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法以及化合物有效
| 申请号： | 201810271130.7 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108693711B | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 长峰高志;高木大地;畠山響 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004;C07D285/01;C07D513/04 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 侯莉;毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
一种抗蚀剂组合物，它是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其中，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)和以通式(d1)表示的化合物(D1)。通式(d1)中，R |
||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 以及 化合物 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂组合物，它是通过曝光产生酸且对显影液的溶解性因酸的作用而变化的抗蚀剂组合物，其特征在于，含有对显影液的溶解性因酸的作用而变化的基材成分(A)、以下述通式(d1)表示的化合物(D1)；[化1]![]()
式中，Rd01和Rd02分别独立为可具有取代基的环式基、可具有取代基的链状烷基、或可具有取代基的链状烯基；或者，Rd01与Rd02可相互结合而形成稠环；m为1以上的整数，Mm+表示m价的有机阳离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社，未经东京应化工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810271130.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：正型感光性聚硅氧烷组合物
- 下一篇：光敏树脂组合物和包括其的电子设备
