[发明专利]一种有机小分子晶体图案化阵列的制备方法在审
| 申请号： | 201810258951.7 | 申请日： | 2018-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN109698275A | 公开（公告）日： | 2019-04-30 |
| 发明（设计）人： | 吴雨辰;高寒飞;江雷 | 申请（专利权）人： | 北京赛特超润界面科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/00 | 分类号： | H01L51/00;H01L51/05;H01L51/40 |
| 代理公司： | 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 | 代理人： | 陈琳琳;武玥 |
| 地址： | 101320 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种有机小分子晶体图案化阵列的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：1)用紫外光刻法制备基于光刻胶的弹性图案化模板；2)以基于光刻胶的弹性图案化模板为诱导模板，以目标基底为盖板，配制有机小分子晶体的水溶液或有机溶液，用基于“三明治”结构体系的毛细力印刷方法，制备有机小分子晶体图案化阵列。本发明采用易于实行且廉价高效的模板诱导生长有机小分子图案化晶体阵列的毛细力印刷方法，以利于器件化的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 有机小分子 制备 图案化阵列 图案化模板 光刻胶 毛细力 三明治 印刷 结构体系 晶体阵列 模板诱导 有机溶液 紫外光刻 晶体的 目标基 器件化 图案化 盖板 配制 诱导 生长 应用 | ||
【主权项】：
1.一种有机小分子晶体图案化阵列的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：1)用紫外光刻法制备基于光刻胶的弹性图案化模板；2)以基于光刻胶的弹性图案化模板为诱导模板，以目标基底为盖板，配制有机小分子晶体的水溶液或有机溶液，用基于“三明治”结构体系的毛细力印刷方法，制备有机小分子晶体图案化阵列。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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