[发明专利]锍盐、抗蚀剂组合物及图案形成方法有效
| 申请号： | 201810234145.6 | 申请日： | 2018-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN108623506B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 藤原敬之;三井亮;片山和弘 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C07C381/12 | 分类号： | C07C381/12;C07C309/12;C07C309/30;C07C309/31;C07C303/32;C07C59/115;C07C51/41;C07D335/02;C07D333/46;G03F7/004 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供一种锍盐，其中，通过将其用作光产酸剂，在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，能够提供缺陷少且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物。所述锍盐含有阴离子及阳离子，所述阳离子具有下述通式(1)所示的局部结构。其中，排除具有下述通式(1’)所示的阳离子的锍盐。[化学式1] |
||
| 搜索关键词： | 锍盐 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种锍盐，其含有阴离子及阳离子，其特征在于，所述阳离子具有下述通式(1)所示的局部结构，[化学式1]![]()
式中，Rfa及Rfb各自独立地为碳原子数为1～4的氟烷基；RXa为氢原子或酸不稳定基团；Ra及Rb各自独立地为氢原子，或为可含杂原子的碳原子数为1～10的一价烃基；Ra及Rb可互相键合，并与它们所键合的碳原子一同形成环；A1a为醚键或硫醚键；L1a为单键，或为可含杂原子的碳原子数为1～20的二价连接基团；＊表示结合键，其中，排除具有下述通式(1’)所示的阳离子的锍盐，[化学式2]![]()
式中，Rfa及Rfb与上述相同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信越化学工业株式会社，未经信越化学工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810234145.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
