[发明专利]锍盐、抗蚀剂组合物及图案形成方法有效

专利信息
申请号: 201810234145.6 申请日: 2018-03-21
公开(公告)号: CN108623506B 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 藤原敬之;三井亮;片山和弘 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C07C381/12 分类号: C07C381/12;C07C309/12;C07C309/30;C07C309/31;C07C303/32;C07C59/115;C07C51/41;C07D335/02;C07D333/46;G03F7/004
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 张晶;谢顺星
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 锍盐 抗蚀剂 组合 图案 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种锍盐,其用作光产酸剂且含有阴离子及阳离子,其特征在于,

所述阳离子具有下述通式(1)所示的局部结构,且为下述通式(2)所示的锍盐或下述(PAG-1)、(PAG-12)、(PAG-13)、(PAG-15)及(PAG-16)中的任一种的锍盐,

式中,Rfa及Rfb各自独立地为碳原子数为1~4的氟烷基;RXa为甲氧基甲基或烷氧羰基;Ra及Rb均为氢原子;A1a为醚键或硫醚键;L1a为单键;*表示结合键,

式中,R1、R2及R3各自独立地为氢原子、所述通式(1)所示的局部结构、可含杂原子的碳原子数为1~20的直链状、支链状或环状的一价烃基;p1、q1及r1各自独立地为0~5的整数;p1、q1或r1为2以上时,所对应的多个R1、R2、或R3可相同或不同;其中,R1、R2、及R3中的一个以上为所述通式(1)所示的局部结构,此时,所述通式(1)中的*表示与苯环的结合键;Z为一价的阴离子,

其中,排除具有下述通式(1’)所示的阳离子的锍盐,

式中,Rfa及Rfb与上述相同,

2.根据权利要求1所述的锍盐,其特征在于,所述通式(1)中的Rfa及Rfb为三氟甲基。

3.根据权利要求1所述的锍盐,其特征在于,所述通式(1)中的A1a为醚键。

4.根据权利要求1所述的锍盐,其特征在于,所述阴离子为下述通式(3)所示的阴离子,

式中,R10为可含杂原子的碳原子数为1~40的直链状、支链状或环状的一价烃基;L为单键或二价的连接基团;Xf1及Xf2各自独立地为氢原子或氟原子,或为被一个以上的氟原子取代的烷基;k为0~4的整数。

5.根据权利要求1所述的锍盐,其特征在于,所述阴离子为下述通式(4a)、(4b)、或(4c)所示的阴离子,

式中,R10为可含杂原子的碳原子数为1~40的直链状、支链状或环状的一价烃基;L为单键或二价的连接基团;A为氢原子或三氟甲基;s为0~5的整数。

6.一种抗蚀剂组合物,其特征在于,该抗蚀剂组合物含有:

(A)权利要求1~5中任一项所述的锍盐;

(B)基体树脂;及

(C)有机溶剂。

7.根据权利要求6所述的抗蚀剂组合物,其特征在于,所述抗蚀剂组合物进一步含有选自以下成分中的一种以上:

(D)除所述(A)成分以外的光产酸剂;

(E)猝灭剂;及

(F)表面活性剂。

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