[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810214557.3 申请日: 2018-03-15
公开(公告)号: CN108447888B 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 吴慧利;孙建明 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王卫忠;袁礼君
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于显示技术领域。该阵列基板包括:衬底基板、像素区以及驱动元件区,驱动元件区包括:栅极、栅绝缘层、有源层、层间绝缘层和源/漏电极层,像素区包括:反射层、至少一个像素定义层和相变材料层,其中栅绝缘层、有源层和源/漏电极层中的一层或多层与位于不同颜色像素区的至少一个像素定义层分别由相同的材料层形成,且像素定义层包括与源/漏电极层相同的材料层。该阵列基板上的像素定义层由栅绝缘层、有源层和源/漏电极层中的一层或多层相同的材料同时形成,使得像素定义层能够与驱动元件区的膜层在同一次工艺中完成,降低曝光次数,降低生产成本。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;多个位于所述衬底基板上的像素区;以及多个分别与所述像素区相邻设置的驱动元件区;所述驱动元件区包括:栅极;栅绝缘层,设置在所述栅极上;有源层,设置在所述栅绝缘层上;层间绝缘层,设置在所述有源层上;以及源/漏电极层,设置在所述层间绝缘层上;所述像素区包括:反射层;至少一个像素定义层,设置在所述反射层上;以及相变材料层,设置在所述至少一个像素定义层上;其中,所述栅绝缘层、所述有源层和所述源/漏电极层中的一层或多层与位于不同颜色像素区的所述至少一个像素定义层分别由相同的材料层形成,且所述至少一个像素定义层包括与所述源/漏电极层相同的材料层。
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