[发明专利]阵列基板及其制备方法、液晶显示面板在审
| 申请号： | 201810115564.8 | 申请日： | 2018-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN108287430A | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 邵源 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板，该阵列基板包括基板、形成在基板上的至少一层减反层，以及形成在减反层上的器件层；其中，减反层的材质为铜的氮化物或/和铜的氧化物。本发明通过在基板上形成该减反层能够降低对外界环境光的反射，进而能提升显示的对比度。 | ||
| 搜索关键词： | 减反层 阵列基板 基板 液晶显示面板 制备 氮化物 环境光 器件层 氧化物 反射 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括基板、形成在所述基板上的至少一层减反层，以及形成在所述减反层上的器件层；其中，所述减反层的材质为铜的氧化物或/和铜的氮化物。
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