[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明涉及一种基板处理装置，具有：共用配管，向分支部引导处理液；供给配管，从分支部向药液喷嘴引导处理液；返回配管，沿着与供给配管不同的路径，从分支部引导处理液；喷出阀，变更从共用配管向分支部供给的处理液的流量。喷出阀使阀芯在包括喷出执行位置和喷出停止位置的多个位置静止，其中，所述喷出执行位置指，以大于吸引流量的最大值的流量，从共用配管向分支部供给处理液的位置，所述吸引流量表示，从分支部向返回配管侧流动的处理液的流量，所述喷出停止位置指，以吸引流量的最大值以下的流量，从共用配管向分支部供给处理液的位置。

主权项

1.一种基板处理装置，其中，具有：基板保持单元，保持基板，喷嘴，向保持于所述基板保持单元的基板喷出处理液，送液装置，输送用于向保持于所述基板保持单元的基板供给的处理液，共用配管，所述共用配管始终打开以便使处理液流动，引导所述送液装置所输送的处理液，分支部，与所述共用配管连接，供给配管，所述供给配管始终打开以便使处理液流动，将所述共用配管所引导的处理液从所述分支部向所述喷嘴引导，返回配管，所述返回配管始终打开以便使处理液流动，将所述共用配管所引导的处理液，从所述分支部沿着与所述供给配管不同的路径引导，吸引装置，从所述分支部向所述返回配管侧吸引处理液，以及，喷出阀，设置于所述共用配管，变更从所述共用配管向所述分支部供给的处理液的流量；所述喷出阀包括：阀体，包括环状的阀座，该阀座包围处理液流动的内部流路，阀芯，配置于所述内部流路，能够相对于所述阀座移动，以及，阀促动器，使所述阀芯在包括喷出执行位置和喷出停止位置的多个位置静止，所述喷出执行位置指，所述阀芯与所述阀座分离，且以大于吸引流量的最大值的流量从所述共用配管向所述分支部供给处理液的位置，所述吸引流量表示,借助所述吸引装置的吸引力从所述分支部向所述返回配管侧流动的处理液的流量，所述喷出停止位置指，所述阀芯与所述阀座分离，且以所述吸引流量的最大值以下的流量从所述共用配管向所述分支部供给处理液的位置。