[发明专利]一种贵金属/二氧化硅复合粒子与半导体量子点混合量子点发光二极管器件的制备方法在审

专利信息
申请号: 201810065630.5 申请日: 2018-01-23
公开(公告)号: CN108232042A 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 杨尊先;郭太良;赵志伟;阮玉帅;叶冰清;胡海龙;陈恩果;陈耿旭;李福山;赖寿强 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350108 福建省福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种贵金属/SiO2复合粒子与半导体量子点混合量子点发光二极管器件的制备方法。利用简单的旋涂成膜工艺技术,在图案化的ITO玻璃衬底上,分别旋涂空穴注入层PEDOT:PSS、空穴传输层、贵金属/SiO2复合粒子‑半导体量子点混合量子点层、电子传输层,再通过磁控溅射蒸镀电极以及封装工艺,最终制备出贵金属/SiO2复合粒子与半导体量子点混合量子点发光二极管器件。利用金属等离子体激元增强效应提升半导体量子点周围的电场强度,从而有效提升在电致发光发光层载流子复合的利用效率,使得半导体量子点电致发光强度和发光效率剧增。
搜索关键词: 半导体量子点 贵金属 发光二极管器件 复合粒子 量子点 制备 二氧化硅复合粒子 金属等离子体 电子传输层 空穴传输层 空穴注入层 载流子复合 磁控溅射 电致发光 发光效率 封装工艺 工艺技术 量子点层 旋涂成膜 发光层 图案化 电极 衬底 电致 旋涂 蒸镀
【主权项】:
1.一种贵金属/SiO2复合粒子与半导体量子点混合量子点发光二极管器件的制备方法,其特征在于:步骤S1:选取一刻蚀过图案的ITO玻璃作为混合量子点发光二极管器件的衬底以及正极,所述ITO玻璃包括一玻璃衬底以及所述玻璃衬底表面覆盖的ITO图案化薄膜;步骤S2:制备CuInS/ZnS量子点溶液,将得到的CuInS/ZnS半导体量子点作为电致发光中心;步骤S3:制备发光层贵金属/SiO2复合粒子溶液,将得到的贵金属/SiO2复合粒子作为等离子激元增强中心,将贵金属纳米颗粒外包SiO2壳作为隔离层;步骤S4:采用旋涂成膜工艺在ITO玻璃表面旋涂空穴注入层PEDOT:PSS、空穴传输层、发光层贵金属/SiO2与CuInS/ZnS量子点、电子传输层作为各功能层;步骤S5:通过蒸镀工艺蒸镀出Al或Ag电极作为量子点发光二极管器件的负极。步骤S6:通过封装工艺制备出完整的量子点发光二极管器件。
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