[发明专利]掩膜板的后处理方法及掩膜板在审
| 申请号： | 201810055266.4 | 申请日： | 2018-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN108251794A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 刘明星;李俊峰;周丽芳;高峰 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C25F1/04 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 唐清凯 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩膜板的后处理方法及掩膜板。掩膜板的后处理方法包括如下步骤：提供掩膜板，掩膜板的表面具有凸部；以及对至少部分凸部进行电解处理。本发明掩膜板的后处理方法能够有效去除或减薄位于掩膜板表面多余的凸起部分。本发明的掩膜板是采用上述的掩膜板的后处理方法制作处理得到，而通过减少位于掩膜板上开口的侧壁面上的凸部的至少部分，能够减少对蒸镀源的遮挡，能够增加蒸镀有效区域，有利于减少设计余量，增加开口率，有利于高PPI产品应用。此外，还可以减少毛刺和边角影响效应。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 后处理 凸部 毛刺 产品应用 电解处理 影响效应 有效区域 开口率 上开口 蒸镀源 边角 侧壁 减薄 凸起 掩膜 蒸镀 去除 遮挡 制作 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板的后处理方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：提供掩膜板，所述掩膜板的表面具有凸部；以及对至少部分所述凸部进行电解处理。
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