[发明专利]掩膜板的后处理方法及掩膜板在审
| 申请号： | 201810055266.4 | 申请日： | 2018-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN108251794A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 刘明星;李俊峰;周丽芳;高峰 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C25F1/04 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 唐清凯 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜板 后处理 凸部 毛刺 产品应用 电解处理 影响效应 有效区域 开口率 上开口 蒸镀源 边角 侧壁 减薄 凸起 掩膜 蒸镀 去除 遮挡 制作 | ||
1.一种掩膜板的后处理方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
提供掩膜板，所述掩膜板的表面具有凸部；以及
对至少部分所述凸部进行电解处理。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：
在对至少部分所述凸部进行电解处理之前，在所述掩膜板上形成保护层，所述保护层露出至少部分所述凸部；以及
在对至少部分所述凸部进行电解处理之后，去除所述保护层。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述掩膜板上形成保护层的步骤为：
在所述掩膜板的表面上形成光刻胶层；以及
对所述凸部表面的光刻胶层进行曝光显影，以露出至少部分所述凸部，以形成保护层。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩膜板上形成有若干开口，所述凸部位于所述开口的侧壁面上；
优选地，所述开口的侧壁面上形成有第一凸部和第二凸部，所述第一凸部靠近所述掩膜板的蒸镀面，所述第二凸部远离所述掩膜板的蒸镀面。
5.根据权利要求1所述的掩膜板的后处理方法，其特征在于，电解处理时采用的电解液的有效成分包括：
第一组分，所述第一组分选自NaOH、KOH和LiOH中的至少一种；
第二组分，所述第二组分选自碱金属的碳酸盐、碱金属的氯化物、碱金属的氮化物和碱金属的磷酸盐中的至少一种，所述碱金属选自Na、K和Li中的至少一种；以及
第三组分，所述第三组分选自单质Fe和单质Ni中的至少一种。
6.根据权利要求5所述的掩膜板的后处理方法，其特征在于，所述电解液中第一组分、第二组份和第三组份的质量比为100：(2.5～10)：(0.0025～0.025)。
7.根据权利要求6所述的掩膜板的后处理方法，其特征在于，所述电解液中第一组分的摩尔含量为0.0001-0.1mol/L，优选为0.001-0.05mol/L。
8.根据权利要求1所述的掩膜板的后处理方法，其特征在于，对至少部分所述凸部进行电解处理时，掩膜板作为电解反应的阴极，电解反应的阳极选自石墨、铜和铂金中的至少一种。
9.根据权利要求1所述的掩膜板的后处理方法，其特征在于，对至少部分所述凸部进行电解处理时，掩膜板作为电解反应的阳极，电解反应的阴极选自石墨、铜和铂金中的至少一种。
10.一种掩膜板，其特征在于，采用权利要求1～9中任一项所述的掩膜板的后处理方法处理得到。
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