[发明专利]X射线传感器的阵列基板、制造方法及X射线传感器有效

专利信息
申请号: 201810054898.9 申请日: 2018-01-19
公开(公告)号: CN108269817B 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 刘琨;张文余;李晓东;佟硕 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王卫忠;袁礼君
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开涉及传感器技术领域,提出一种X射线传感器的阵列基板的制造方法,X射线传感器的阵列基板包括衬底基板,以及设置在衬底基板上的薄膜晶体管器件和光电二极管器件,该制造方法包括:在薄膜晶体管器件的第一钝化层之上形成第一平坦化层;在第一平坦化层之上形成第二电极层,第二电极层能够遮挡薄膜晶体管器件;在第二电极层之上形成光电二极管器件。使用该制造方法制造的阵列基板像素填充率较高、灵敏度较高。
搜索关键词: 射线 传感器 阵列 制造 方法
【主权项】:
1.一种X射线传感器的阵列基板的制造方法,X射线传感器的阵列基板包括衬底基板,以及设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管器件和光电二极管器件,其特征在于,所述制造方法包括:在薄膜晶体管器件的第一钝化层之上形成第一平坦化层;在所述第一平坦化层之上形成第二电极层,所述第二电极层能够遮挡所述薄膜晶体管器件;在所述第二电极层之上形成光电二极管器件。
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