[发明专利]一种构建NaInS2基中间带半导体材料的方法在审

专利信息
申请号: 201810054137.3 申请日: 2018-01-19
公开(公告)号: CN108336168A 公开(公告)日: 2018-07-27
发明(设计)人: 鲁书瀚;陈平;丁成林;沈家兰 申请(专利权)人: 上海电机学院
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人: 胡永宏
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明属于半导体材料科学技术领域,尤其涉及到一种以NaInS2半导体为受主,在其带隙中构建中间能带的方法。本发明利用特殊过渡金属元素取代掺杂NaInS2的In位,过渡金属的d电子态与S的3p杂化成键,能够在受主带隙中引入孤立的半满中间带,使电子存在三种跃迁路径VB→IB、IB→CB、VB→CB,从而对可见光吸收增强。
搜索关键词: 半导体材料 中间带 带隙 构建 受主 过渡金属元素 科学技术领域 可见光吸收 过渡金属 电子态 成键 跃迁 杂化 半导体 掺杂 孤立 引入
【主权项】:
1.一种构建NaInS2基中间带半导体材料的方法,包括如下步骤:(1)以NaInS2为基础,建立超晶胞结构;(2)利用过渡金属元素取代掺杂NaInS2的In位。
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