[发明专利]一种原子层沉积设备的气路系统及其控制方法

摘要

本发明公开了一种原子层沉积设备的气路系统及其控制方法，通过增加1至2个独立设置的真空泵用于分别排出反应前躯体A或/和B，以避免两种前躯体在真空管路中相遇而产生大量颗粒，从而延长了真空泵的使用寿命，降低了设备维护成本；还可通过增加2个独立设置的真空泵用于分别排出反应前躯体A和B，以进一步避免反应源旁路管路通过真空管路与腔室直接连通，从而降低了腔室被污染的概率，维护了腔室的洁净环境。

主权项

1.一种原子层沉积设备的气路系统，其特征在于，包括至少两种反应前驱体传输管路和至少两种反应前驱体旁路，其中：每种所述反应前驱体传输管路均用于向反应腔室通入对应的一种反应前驱体，且每种所述反应前驱体传输管路均与对应的一种所述反应前驱体旁路的进口端连接；至少一种所述反应前驱体旁路的出口端连接有真空泵，且不同所述反应前驱体旁路之间不连通，以避免不同所述反应前驱体相遇而反应。