[发明专利]一种原子层沉积设备的气路系统及其控制方法

权利要求书

1.一种原子层沉积设备的气路系统，其特征在于，包括至少两种反应前驱体传输管路和至少两种反应前驱体旁路，其中：

每种所述反应前驱体传输管路均用于向反应腔室通入对应的一种反应前驱体，且每种所述反应前驱体传输管路均与对应的一种所述反应前驱体旁路的进口端连接；

至少一种所述反应前驱体旁路的出口端连接有真空泵，且不同所述反应前驱体旁路之间不连通，以避免不同所述反应前驱体相遇而反应。

2.根据权利要求1所述的原子层沉积设备的气路系统，其特征在于，所述气路系统还包括：

稀释管路，连接至所述反应腔室入口，用于向所述反应腔室内通入稀释气体；

真空管路，连接至所述反应腔室出口，用于通过第一真空泵将所述反应腔室内的残留物排出；

所述反应前驱体传输管路包括：

反应前躯体A传输管路，连接至所述稀释管路，用于将由携载气体A携带的反应前躯体A通过所述稀释管路汇入所述反应腔室；

反应前躯体B传输管路，连接至所述稀释管路，用于将由携载气体B携带的反应前躯体B通过所述稀释管路汇入所述反应腔室；

所述反应前驱体旁路包括：

反应前躯体A旁路，所述反应前躯体A旁路的进口端连接所述反应前躯体A传输管路，出口端连接第二真空泵；

反应前躯体B旁路，所述反应前躯体B旁路的进口端连接所述反应前躯体B传输管路，出口端通过所述真空管路连接所述第一真空泵。

3.根据权利要求1所述的原子层沉积设备的气路系统，其特征在于，所述气路系统还包括：

稀释管路，连接至所述反应腔室入口，用于向所述反应腔室内通入稀释气体；

真空管路，连接至所述反应腔室出口，用于通过第一真空泵将所述反应腔室内的残留物排出；

所述反应前驱体传输管路包括：

反应前躯体A传输管路，连接至所述稀释管路，用于将由携载气体A携带的反应前躯体A通过所述稀释管路汇入所述反应腔室；

反应前躯体B传输管路，连接至所述稀释管路，用于将由携载气体B携带的反应前躯体B通过所述稀释管路汇入所述反应腔室；

所述反应前驱体旁路包括：

反应前躯体A旁路，所述反应前躯体A旁路的进口端连接所述反应前躯体A传输管路，出口端通过真空管路连接第一真空泵；

反应前躯体B旁路，所述反应前躯体B旁路的进口端连接所述反应前躯体B传输管路，出口端连接第三真空泵。

4.根据权利要求1所述的原子层沉积设备的气路系统，其特征在于，所述气路系统还包括：

稀释管路，连接至所述反应腔室入口，用于向所述反应腔室内通入稀释气体；

真空管路，连接至所述反应腔室出口，用于通过第一真空泵将所述反应腔室内的残留物排出；

所述反应前驱体传输管路包括：

反应前躯体A传输管路，连接至所述稀释管路，用于将由携载气体A携带的反应前躯体A通过所述稀释管路汇入所述反应腔室；

反应前躯体B传输管路，连接至所述稀释管路，用于将由携载气体B携带的反应前躯体B通过所述稀释管路汇入所述反应腔室；

所述反应前驱体旁路包括：

反应前躯体A旁路，所述反应前躯体A旁路的进口端连接所述反应前躯体A传输管路，出口端连接第二真空泵；

反应前躯体B旁路，所述反应前躯体B旁路的进口端连接所述反应前躯体B传输管路，出口端连接第三真空泵。

5.根据权利要求2-4任意一项所述的原子层沉积设备的气路系统，其特征在于，所述反应前躯体A传输管路中设有用于存放反应前躯体A的第一源瓶，所述第一源瓶通过第一源瓶入口、第一源瓶出口接入所述反应前躯体A传输管路；所述反应前躯体B传输管路中设有用于存放反应前躯体B的第二源瓶，所述第二源瓶通过第二源瓶入口、第二源瓶出口接入所述反应前躯体B传输管路。

6.根据权利要求2-4任意一项所述的原子层沉积设备的气路系统，其特征在于，所述反应前躯体A传输管路设有用于控制反应前躯体A通断的第一控制阀，所述反应前躯体A旁路设有用于控制反应前躯体A通断的第二控制阀；所述反应前躯体B传输管路设有用于控制反应前躯体B通断的第三控制阀，所述反应前躯体B旁路设有用于控制反应前躯体B通断的第四控制阀。