[发明专利]一种阵列基板的制备方法

摘要

本发明涉及显示技术领域，公开了一种阵列基板的制备方法，该阵列基板的制备方法中，包括：在基板上依次制备栅极层、绝缘层、有源层；在有源层上制备第一金属层；在第一金属层上沉积第二金属层，并形成第二金属层的图形，其中，第二金属层中与沟道对应的部位去除，以露出第一金属层；对第一金属层中与沟道对应的部位进行氧化处理，以形成黑色氧化绝缘层；剥离光刻胶。上述阵列基板的制备方法中，通过在有源层上形成第一金属层和第二金属层，并对第一金属层进行氧化处理，使得第一金属层氧化产生第一金属层的金属氧化物，形成黑色氧化绝缘层，对有源层起到遮光的作用，改善了光照稳定性，提高了显示器件的稳定性。

主权项

1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：在基板上制备栅极层；在所述栅极层上制备栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上制备有源层；在所述有源层上制备第一金属层；在所述第一金属层上沉积第二金属层，并通过构图工艺形成第二金属层的图形，其中，所述第二金属层中与沟道对应的部位去除，以露出所述第一金属层中与沟道对应的部位；对所述第一金属层中与沟道对应的部位进行氧化处理，以使所述第一金属层中与沟道对应的部位形成黑色氧化绝缘层；剥离光刻胶。