[发明专利]掩模框架组件在审
| 申请号： | 201810044003.3 | 申请日： | 2018-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN108330436A | 公开（公告）日： | 2018-07-27 |
| 发明（设计）人： | 姜泽教;孔守喆;李锺大;田相轩 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及能够提高掩模与衬底之间的贴合度的掩模框架组件，在包括框架和结合至框架的掩模的掩模框架组件中，掩模包括图案孔和虚设孔，其中，图案孔定位在掩模的图案区域中，并且虚设孔定位在掩模的除了图案区域以外的非图案区域中，并且虚设孔的尺寸大于图案孔的尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模 掩模框架组件 图案孔 虚设 图案区域 非图案区域 孔定位 贴合度 衬底 | ||
【主权项】：
1.掩模框架组件，包括：框架；以及掩模，所述掩模与所述框架结合，其中，所述掩模包括：图案孔，所述图案孔定位在所述掩模的图案区域中；以及虚设孔，所述虚设孔定位在所述掩模的除了所述图案区域以外的非图案区域中，并且所述虚设孔的尺寸大于所述图案孔的尺寸。
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