[发明专利]一种光电二极管及其制备方法、X射线探测基板在审

专利信息
申请号: 201810012447.9 申请日: 2018-01-05
公开(公告)号: CN108198894A 公开(公告)日: 2018-06-22
发明(设计)人: 黄睿 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 莎日娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提供了一种光电二极管及其制备方法、X射线探测基板,其中光电二极管包括基板,以及设置在所述基板上的第一电极层;层叠设置在所述第一电极层上的第一掺杂层、本征层和第二掺杂层;设置在所述第二掺杂层上的第二电极层;其中,在所述第一电极层远离所述基板一侧的表面具有多个凹陷区;利用第一电极层表面的多个凹陷区结构接收光子,产生等离子激元共振效应,从而促进光电二极管对入射光的吸收,进而提高光电二极管的光电转换效率。
搜索关键词: 光电二极管 第一电极 基板 掺杂层 凹陷区 制备 光电转换效率 等离子激元 层叠设置 第二电极 共振效应 本征层 入射光 光子 吸收 申请
【主权项】:
1.一种光电二极管,其特征在于,所述光电二极管包括:基板,以及设置在所述基板上的第一电极层;层叠设置在所述第一电极层上的第一掺杂层、本征层和第二掺杂层;设置在所述第二掺杂层上的第二电极层;其中,所述第一电极层在朝向所述第一掺杂层一侧的表面具有多个凹陷区。
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