[发明专利]TFT阵列结构及其绑定区、绑定区的制作方法在审

专利信息
申请号: 201780096681.8 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN111344865A 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 林致远;蔡武卫;陈国峰 申请(专利权)人: 深圳市柔宇科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518172 广东省深圳市龙岗区*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种TFT阵列结构及其绑定区、绑定区的制作方法,绑定区包括第一基板(10)、设置在第一基板(10)上的金属叠层(20)、设置在第一基板(10)上并覆盖金属叠层(20)边缘的绝缘叠层(30)、以及设置在金属叠层(20)上的透光导电层(40);金属叠层(20)包括具有Cu层的第一金属层(21);透光导电层(40)覆盖在第一金属层(21)上。在TFT阵列结构的绑定区中,通过透光导电层(40)在金属层上的设置,对金属层进行保护,避免金属层中的Cu金属氧化腐蚀。
搜索关键词: tft 阵列 结构 及其 绑定 制作方法
【主权项】:
暂无信息
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