[发明专利]测量装置、涂布装置及膜厚测定方法在审
申请号: | 201780081240.0 | 申请日: | 2017-11-28 |
公开(公告)号: | CN110140021A | 公开(公告)日: | 2019-08-16 |
发明(设计)人: | 大庭博明 | 申请(专利权)人: | NTN株式会社 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;B05C1/02;B05C5/00;B05C11/00;G01N21/45 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 俞丹;宋俊寅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种测量基板上的透明材料的膜厚的方法。在基板上,将第一对象物(透明材料)涂布到第一基板表面上,并将第二对象物(透明材料)涂布到第二基板表面上。该方法包括:测量第一对象物的前表面相对于第一基板表面在未涂布第一对象物的位置处的第一相对高度;测量第一对象物的前表面相对于第一对象物的后表面的第二相对高度;基于第一相对高度和第二相对高度计算透明材料的折射率(S10)。该方法还包括使用第二对象物的前表面相对于第二对象物的后表面的第三相对高度以及计算出的折射率来测量第二对象物的膜厚(S20)。 | ||
搜索关键词: | 对象物 透明材料 前表面 第一基板 测量 后表面 折射率 膜厚 测量装置 第二基板 膜厚测定 涂布装置 测量基 位置处 基板 | ||
【主权项】:
1.一种测量装置,该测量装置被配置成测量涂布到基板表面上的透明材料的对象物的膜厚,其特征在于,包括:配置成发射白光的光源;物镜,该物镜配置成将从所述光源发射出的白光分成两束,用两束中的一束照射所述对象物并用另一束照射参考表面,以使所述对象物反射的光和所述参考表面反射的光之间发生干涉,从而获得干涉光;成像设备,该成像设备配置成拍摄由所述物镜获得的干涉光的图像;定位设备,该定位设备配置成相对于所述对象物沿光轴方向移动所述物镜;以及控制设备,该控制设备配置成控制所述光源、所述成像设备以及所述定位设备,并基于所述成像设备拍摄的图像中的干涉光的峰值强度来测量所述对象物的高度,第一对象物被涂布到第一基板表面上,第二对象物被涂布到第二基板表面上,所述控制设备被配置成:基于所述第一对象物的前表面相对于所述第一基板表面在未涂布所述第一对象物的位置处的第一相对高度、以及所述第一对象物的前表面相对于所述第一对象物的后表面的第二相对高度来计算所述透明材料的折射率;以及使用所述第二对象物的前表面相对于所述第二对象物的后表面的第三相对高度以及计算出的所述折射率,来测量所述第二对象物的膜厚。
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