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[发明专利]免疫层析化验试剂盒-CN202180074256.5在审
发明人：针山孝彦;河崎秀阳;大庭博明 -专利权人：国立大学法人浜松医科大学;NTN株式会社
申请日： 2021-11-02 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： G01N33/543 文献下载
摘要：一种免疫层析化验试剂盒(100)，包括：样品滴下部(1)，上述样品滴下部供样品滴下；偶联部(2)，上述偶联部供具有与样品中的检测目标结合的性质的标记抗体固定；以及至少一个检测部(3)，上述至少一个检测部供具有与检测目标结合的性质的捕获抗体固定。试样滴下部(1)、偶联部(2)和多个检测部(3)形成在多孔构件上。每个检测部(3)的外形是点状的。
免疫层析化验试剂盒

[发明专利]涂布方法及涂布装置-CN201580050407.8有效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2015-09-07 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： B05D1/28 文献下载
摘要：在该墨水涂布方法中，使墨水(22)附着于涂布针(24)的前端部(24a)，将涂布针(24)配置在MEMS(40)的机构部(40a)的上方，使涂布针(24)下降而使前端部(24a)与机构部(40a)的表面接触并待机一定时间。接下来，一边使涂布针(24)与MEMS(40)沿水平方向相对移动，一边使涂布针(24)上升而使涂布针(24)的前端部(24a)从机构部(40a)的表面脱离，在机构部(40a)的表面形成墨水层(22a)。与仅使涂布针(24)沿垂直方向上升的情况相比，能减轻机构部(40a)被墨水(22)的粘着力拉伸的力。
方法装置

[发明专利]微小突起的体积测定方法及液体材料的涂布方法-CN201780006528.1有效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2017-01-10 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：微小突起的体积测定方法包括如下步骤：利用白光干涉法测定微小突起的三维形状(S102)；比较检测出干涉光强度的包络线的第一个峰值的高度与基准面的高度，并提取高于基准面的部分作为微小突起的突起顶点部(S103)；检测提取出的突起顶点部的高度(S104)；检测由突起顶点部和高度与基准面的高度不同的部位构成的区域中的外接四边形的横向尺寸、纵向尺寸、或横向尺寸与纵向尺寸的平均的任一个来作为直径，其中该部位包含突起顶点部或与突起顶点部接触(S105)；以及基于突起顶点部的高度与直径计算微小突起的体积(S106)。
微小突起体积测定方法液体材料

[发明专利]涂布方法及涂布装置-CN201580050338.0有效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2015-09-07 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： B05D1/28 文献下载
摘要：墨水涂布方法执行多次使墨水(22)附着于涂布针(24)的前端部(24a)，将涂布针(24)配置在基板(35)的对象区域(35a)上方的预定位置，使涂布针(24)下降和上升而将墨水(22)涂布于对象区域(35a)，来形成墨水层(22a)的工序，从而层积多层墨水层(22a)，其中，随着执行的工序次数增多，使涂布针(24)从预定位置朝向对象区域(35a)下降的距离减小。因此，在涂布墨水时能缓和从涂布针(24)的前端经由墨水层(22a)施加于对象区域(35a)的冲击。
方法装置

[发明专利]形状测定装置及搭载有形状测定装置的涂布装置-CN201680035681.2有效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2016-06-09 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：形状测定装置的控制装置(6)对压电平台(5)和拍摄装置(4)进行控制，一边使干涉仪(3)沿光轴方向进行移动，一边在多个位置(h)对各个图像进行拍摄，关于各图像的像素的亮度直方图利用判别分析法求出分离度(R)，将压电平台(5)配置于与多个图像中的分离度(R)成为最大值(Rmax)的图像相对应的位置(hf)，从而将干涉仪(3)的焦点(P1)配置于对象物(7)的表面。因此，能容易地使干涉仪(3)的焦点(P1)对准对象物(7)的表面。
形状测定装置搭载

[发明专利]高度检测装置及搭载该高度检测装置的涂敷装置-CN201680066070.4有效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2016-11-08 - 公布日： 2020-09-08 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：高度检测装置(1)一边相对于膏膜(53)在光轴方向上移动双光束干涉物镜(4)一边根据Z载台(7)的位置依次将白光的亮度从第一等级变化为第二等级，并拍摄干涉光的图像，针对拍摄到的图像的每个像素，检测在白光的亮度被设定为第一等级或第二等级的期间中干涉光的强度成为最大的Z载台(7)的位置，以作为焦点位置，并基于检测结果来获得膏膜(53)的高度。
高度检测装置搭载

[发明专利]形状测量装置以及待涂覆目标物体的制造方法-CN201780010383.2有效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2017-01-10 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明提供一种能准确地测量目标物体的形状的形状测量装置及使用该形状测量装置制造待涂覆目标物体的方法。根据本发明的形状测量装置，通过向目标物体照射白光并使用来自目标物体的反射光来测量目标物体的形状。其包括光源、双光束干涉物镜、成像装置、观察光学系统、定位装置、控制装置。控制装置对于由成像装置获得的多个图像中的每个单位区域，计算在多个图像中基于亮度的评估值达到最大时的双光束干涉物镜的位置作为单位区域的焦点位置，并基于多个图像中的每个单位区域的焦点位置来测量目标物体的形状。控制装置使用多个图像中的每个单位区域的亮度、以及与该单位区域的亮度和该单位区域相邻的多个单位区域的亮度之差相关的值，作为评估值。
形状测量装置以及待涂覆目标物体制造方法

[发明专利]形状测定装置、涂敷装置及形状测定方法-CN201580042360.0有效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2015-07-08 - 公布日： 2019-10-25 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：物镜(20)将来自落射光源(12)的白色光分离为两个光束，使一方照射透明膜(3)的表面并使另一方照射参照镜(24)，获得来自两面的反射光的干涉光。控制用计算机(40)使物镜(20)定位到透明膜(3)的上方后，使透明膜(3)和物镜(20)沿着上下方向相对移动的同时，拍摄多张干涉光的图像。控制用计算机(40)在CCD相机(30)的拍摄周期内，按拍摄顺序向拍摄的多张的图像附上图像编号，并对构成图像的各像素执行：求出多个亮度成为波峰的图像编号的第1阶段处理和拍摄多张图像后根据多个亮度成为波峰的图像编号来检测透明膜(3)的膜厚或凹凸部的高度的第2阶段处理。
形状测定装置方法

[发明专利]高度检测装置、涂布装置及高度检测方法-CN201580004131.X有效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2015-01-09 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：高度检测部在使凹凸部和物镜沿上下方向发生相对移动的同时对图像进行拍摄，基于针对构成所拍摄的图像的多个像素的每一个求出的焦点位置，来对凹凸部的高度进行检测。高度检测部执行第一阶段的处理和第二阶段的处理，其中：在所述第一阶段的处理中，在摄像装置的拍摄周期内，针对构成拍摄的图像的多个像素的每一个，将拍摄的图像的亮度最大的定位装置的位置设为焦点的候选位置；在所述第二阶段的处理中，在摄像装置对全部的图像进行拍摄后，针对构成在通过第一阶段的处理求出的焦点的候选位置的前后拍摄到的图像的多个像素的每一个，以在前后拍摄到的图像的多个亮度为基础求出对比度，基于该对比度求出焦点位置，并基于该焦点位置来对凹凸部的高度进行检测。
高度检测装置方法

[发明专利]测量装置、涂布装置及膜厚测定方法-CN201780081240.0在审
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2017-11-28 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供一种测量基板上的透明材料的膜厚的方法。在基板上，将第一对象物(透明材料)涂布到第一基板表面上，并将第二对象物(透明材料)涂布到第二基板表面上。该方法包括：测量第一对象物的前表面相对于第一基板表面在未涂布第一对象物的位置处的第一相对高度；测量第一对象物的前表面相对于第一对象物的后表面的第二相对高度；基于第一相对高度和第二相对高度计算透明材料的折射率(S10)。该方法还包括使用第二对象物的前表面相对于第二对象物的后表面的第三相对高度以及计算出的折射率来测量第二对象物的膜厚(S20)。
对象物透明材料前表面第一基板测量后表面折射率膜厚测量装置第二基板膜厚测定涂布装置测量基位置处基板

[发明专利]涂布装置以及高度检测方法-CN201480030007.6有效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2014-06-13 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：本缺陷修正装置(1)(涂布装置)的控制用计算机(11)是在将物镜(16)定位于由涂布在基板(7)表面上的墨水形成的墨水涂布部的上方之后，一边移动Z平台(8)一边拍摄图像，针对构成所拍摄图像的多个像素分别求出对比度C达到峰值的Z平台位置(该像素的焦点位置)，根据求出的Z平台位置求出墨水涂布部的高度。因此，能够定量地检测出墨水涂布部的高度。
装置以及高度检测方法

[发明专利]缺陷校正设备和缺陷校正方法-CN201280058501.4无效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2012-11-30 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：缺陷校正设备具有多个涂布针，并且可以根据基板中的缺陷执行有效的校正操作。缺陷校正设备(100)具有：墨水涂布机构(34)，其包括多个针，用于校正缺陷并且涂布直径各不相同；图像处理单元(21)，用于检测基板中的缺陷位置；计算单元(25)，用于基于所检测的缺陷位置的图像来计算表示缺陷尺寸的缺陷尺寸值；选择单元(26)，用于根据计算出的缺陷尺寸值选择具有要用于校正的涂布直径的针；以及校正处理单元(50)，用于使用具有一涂布直径的选定针来校正缺陷。
缺陷校正设备方法

[发明专利]缺陷检测装置、缺陷修正装置及缺陷检测方法-CN201310377121.3在审
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2013-08-26 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：发明的缺陷检测装置包括：摄像头，该摄像头拍摄基板并输出电信号；以及图像处理装置，该图像处理装置中输入有由摄像头输出的电信号。图像处理装置使用从电信号中得到的多个信号各自的图像对比度中较大的对比度，来检测基板的缺陷部。由于使用多个信号各自的图像对比度中较大的对比度来检测缺陷部，因此即使对于在被区分为各信号之前的图像中与正常部之间的对比度较小的缺陷部，也能够检测出缺陷部，而不会使灵敏度显著降低。
缺陷检测装置修正方法

[发明专利]基板保持装置及使用该基板保持装置的缺陷修正装置-CN201110050773.7无效
发明人：藤田康之;大庭博明;井上达司;山中昭浩 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2011-02-24 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种缺陷修正装置(1)，配置有供玻璃基板(99)装载的一对基板端支承台3。在一对基板端支承台(3)之间的区域内配置有多个基板支承用滚轮机构(4)，这些基板支承用滚轮机构(4)从下方对玻璃基板(99)予以支承。基板支承用滚轮机构(4)安装有将所装载的玻璃基板(99)的下表面吸附并保持的基板吸附台(26)。藉此，能得到用更简易的结构来对基板进行保持的基板保持装置和应用该基板保持装置的缺陷修正装置。
保持装置使用缺陷修正

[发明专利]图案修改装置-CN200710166982.1有效
发明人： 大庭博明 -专利权人： NTN株式会社
申请日： 2007-11-07 - 公布日： 2008-05-14 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：提供能方便地校正目标位置与涂敷位置的位置偏移的图案修改装置。此图案修改装置(1)在进行更新校正值的校正模式时，对镜(51)的测试区(51a)的目标位置(P1)涂敷修改墨(49)，根据涂墨前后的测试区(51a)的图像，检测出实际涂敷修改墨(49)的涂敷位置(P2)，从而检测出目标位置(P1)与涂敷位置(P2)的位置偏移量，并根据其检测结果，更新校正值。因而，图案修改装置(1)本身更新校正值，因此操作者不必进行校正作业。
图案修改装置

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