[发明专利]顺序渗透合成设备

摘要

本公开涉及一种顺序渗透合成设备，其包括：反应室，所述反应室被构造和布置成容纳至少一个衬底；第一前体流动路径，当激活第一流动控制器时向所述反应室提供所述第一前体；第二前体流动路径，当激活第二流动控制器时向所述反应室提供第二前体；去除流动路径，允许从所述反应室去除气体；去除流动控制器，当激活所述去除流动控制器时在所述反应室到所述去除流动路径中产生气体流；和顺序控制器，所述顺序控制器可操作地连接到所述第一、第二和去除流动控制器，并且所述顺序控制器被编程以使得能够在所述反应室中渗透所述衬底上提供的可渗透材料。所述设备可以设置有加热系统。

主权项

1.一种顺序渗透合成设备，其包括：反应室，所述反应室设置有衬底固持器以固持至少一个衬底；前体分配和去除系统，所述系统包括一个或多个反应室阀门以向所述反应室提供并且从所述反应室去除气态第一和/或第二前体；和顺序控制器，所述顺序控制器可操作地连接到所述一个或多个反应室阀门并且被编程以使得能够在所述反应室中用所述气态第一和第二前体顺序渗透所述衬底上提供的可渗透材料，其中所述设备设置有加热系统，所述加热系统被构造和布置成控制所述反应室直到至少一个所述反应室阀门的温度。