[发明专利]含镓和/或铟的组合物及其形成方法有效
| 申请号： | 201780071063.8 | 申请日： | 2017-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN109982838B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | G·H·柯比;J·万 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B32B7/027 | 分类号： | B32B7/027;B32B18/00;C23C14/18 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种组合物，其包括含硅材料(例如，硅金属和/或硅化物)和约0.001％至约85％的含Ga化合物、含In化合物或它们的混合物。硅基层可以是直接在基底表面的粘合涂层。可选地或另外地，硅基层可以是限定基底表面的外层，在基底表面上具有环境障涂层。还提供了涂覆的组件，以及一种涂覆陶瓷组件的方法。还提供了包括这种陶瓷组件的燃气涡轮发动机。 | ||
| 搜索关键词： | 组合 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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