[发明专利]利用频谱射频分析的处理腔室硬件错误检测有效
| 申请号： | 201780069019.3 | 申请日： | 2017-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN109923638B | 公开（公告）日： | 2023-06-02 |
| 发明（设计）人： | S·K·甘塔萨拉;V·C·维努戈帕尔;H-H·都 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 汪骏飞;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 描述了一种将错误指派至处理腔室的方法。一些实施例包括：将射频(RF)信号施加至处理腔室，以在所述腔室中激发共振；测量所述腔室中的所施加的RF信号的共振；从所测量的共振提取指纹；将所提取的指纹与指纹库作比较；将相似性指数指派至所提取的指纹与在所述指纹库中的至少一个库指纹的结合；将各个相似性指数与临界值作比较；并且如果所述相似性指数大于临界值，则使用所述库指纹将错误指派至所述处理腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 频谱 射频 分析 处理 硬件 错误 检测 | ||
【主权项】：
1.一种将错误指派至处理腔室的方法，包含：将射频(RF)信号施加至处理腔室，以在所述腔室中激发共振；测量在所述腔室中的所施加的RF信号的共振；从所测量的共振提取指纹；将所提取的指纹与指纹库作比较，各个库指纹与处理腔室错误相关联；将相似性指数指派至所提取的指纹与在所述指纹库中的至少一个库指纹的结合，以形成多个相似性指数；将各个相似性指数与临界值作比较；如果所述相似性指数大于临界值，则使用所相关联的库指纹将错误指派至所述处理腔室。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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