[发明专利]沉积掩模用金属板以及沉积掩模及其制造方法在审
申请号: | 201780063868.8 | 申请日: | 2017-08-22 |
公开(公告)号: | CN109844974A | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 成东默;尹锺珉;曹守铉;金海植;韩太勋;孙晓源;李相侑;李相范 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | H01L51/00 | 分类号: | H01L51/00;H01L21/027;H01L21/475;H01L21/203;H01L51/56;C23C14/04;C23F1/02 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡胜有;苏虹 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 用于制造沉积掩模的金属板包括:基础金属板;以及设置在基础金属板上的表面层,其中表面层包含与基础金属板的元素不同的元素,或者具有与基础金属板的组成比不同的组成比,以及基础金属板的蚀刻速率大于表面层的蚀刻速率。一个实施方案包括用于蚀刻因子大于或等于2.5的沉积掩模的制造方法。该实施方案的沉积掩模包括沉积图案区域和非沉积区域,沉积图案区域包括复数个通孔,沉积图案区域分为有效区域、外周区域和非有效区域,并且通孔可以形成在有效区域和外周区域中。 | ||
搜索关键词: | 基础金属板 沉积掩模 蚀刻 沉积图案 表面层 外周区域 有效区域 金属板 组成比 通孔 制造 非有效区域 沉积区域 复数 | ||
【主权项】:
1.一种用于制造沉积掩模的金属板,所述金属板包括:基础金属板;设置在所述基础金属板的第一表面上的第一表面层;以及设置在所述基础金属板的与所述第一表面对置的第二表面上的第二表面层,其中所述第一表面层和所述第二表面层包含与所述基础金属板的元素不同的元素、或者与所述基础金属板的组成比不同的组成比,以及所述基础金属板的蚀刻速率大于所述第一表面层和所述第二表面层的蚀刻速率。
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