[发明专利]基于波长的光学过滤有效
| 申请号： | 201780057238.X | 申请日： | 2017-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN109791075B | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | A·A·沙夫甘斯;I·V·福门科夫;陶业争;R·罗基斯特斯基;D·J·W·布朗;C·A·史汀生;R·J·拉法克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/10 | 分类号： | G01J3/10;G02B5/18;G02B5/26;G03F7/20;H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张昊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于极紫外(EUV)光刻工具的光源，包括：光生成系统，包括光生成模块；光学放大器，包括与增益带相关联的增益介质，增益介质被配置为放大具有增益带中的波长的光；以及基于波长的光学滤光器系统，位于光生成模块和光学放大器之间的光束路径上，基于波长的光学滤光器系统包括至少一个光学元件，至少一个光学元件被配置为允许具有第一波长集合中的波长的光在光束路径上传播，并且允许从光束路径中移除具有第二波长集合中的波长的光，第一波长集合和第二波长集合包括光学放大器的增益带中的不同波长。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 波长 光学 过滤 | ||
【主权项】：
1.一种用于极紫外(EUV)光刻工具的光源，所述光源包括：光生成系统，包括光生成模块；光学放大器，包括与增益带相关联的增益介质，所述增益介质被配置为放大具有所述增益带中的波长的光；以及基于波长的光学滤光器系统，位于所述光生成模块与所述光学放大器之间的光束路径上，所述基于波长的光学滤光器系统包括至少一个光学元件，所述至少一个光学元件被配置为允许具有第一波长集合中的波长的光在所述光束路径上传播，并且允许从所述光束路径中移除具有第二波长集合中的波长的光，所述第一波长集合和所述第二波长集合包括所述光学放大器的所述增益带中的不同波长。
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